今天，樂知網律師 給大家分享： 職務發明創造糾紛，如何判斷與本職工作有關？ ，聚焦HKMG工藝，探究中國28nm制程技術升級路徑 。

職務發明創造糾紛，如何判斷與本職工作有關？

關于職務發明創造，根據我國現行專利法及實施細則的規定，專利申請權及專利權應歸屬該單位，職務發明創造主要包括以下幾種： (一)在本職工作中作出的發明創造；(二)履行本單位交付的本職工作之外的任務所作出的發明創造；(三)退休、調離原單位后或者勞動、人事關系終止后1年內作出的，與其在原單位承擔的本職工作或者原單位分配的任務有關的發明創造。

雖然專利法及實施細則有上述規定，但實踐中對于上述規定中的具體認定要件的解釋仍然存在爭議，尤其是上述第三項所涉及的糾紛通常是由技術人員的離職所產生的，如何認定發明創造與離職員工在原單位本職工作或者分配任務“有關”？具體判斷標準及尺度如何適用？下文結合最高人民法院知識產權庭于2023年3月發布的一個案例進行介紹和分析，在該案例中最高院對“有關”的認定需要考慮的因素進行了詳細論述。

在上訴人浙江C公司與被上訴人S公司、陳某、隆某等專利權屬糾紛案[1]中，C公司主張，訴爭專利發明創造系陳某、隆某從C公司離職后1年內作出的與其二人在C公司承擔的本職工作或分配的任務有關的發明創造，故訴爭專利權應當歸屬于C公司。

最高院認為，判斷發明創造與離職員工在原單位承擔的本職工作或者被分配的任務是否“有關”，既要注意維護原單位對確屬職務發明創造的科學技術成果享有的合法權利，鼓勵和支持創新驅動發展，也要注意避免將細則規定的“有關的發明創造”作過于寬泛的解釋，導致在沒有法律明確規定或者競業限制協議約定的情況下，不適當地限制研發人員的正常流動，或者限制研發人員在新的單位合法參與或開展新的技術研發活動。

具體而言，最高院認為進行上述判斷時應綜合考慮以下因素：

一、訴爭專利的具體情況，包括技術領域、所解決的技術問題、發明目的和技術效果、權利要求限定的保護范圍、相對于現有技術的”實質性特點“等。

分析訴爭專利發明創造的實質性特點或者改進思路是否已經體現于原單位技術方案中，或者說訴爭專利發明創造相對于原單位技術方案在技術思路上是否體現出延續性和傳承性。

本案中，C公司空氣濾清器的技術方案無論從技術手段及技術效果來看均未體現訴爭專利區別于現有技術的發明點，因此訴爭專利發明創造相對于C公司的技術方案在技術思路上并未體現出延續性和傳承性。

二、離職員工在原單位承擔的本職工作或原單位分配的任務的具體內容，包括工作職責、權限，能夠接觸、控制、獲取的與訴爭專利有關的技術信息等，以及訴爭專利與離職員工承擔的本職工作或原單位分配任務的關系。

本案中，陳某、隆某的工作崗位均不涉及空氣濾清器的具體研發，也未被分配改進空氣濾清器的具體工作任務。

雖然二人曾接觸過“空氣濾清器總成”相關圖紙，但這些圖紙并未進一步披露具體的技術信息細節。

因此，最高院認為C公司關于訴爭專利系其職務發明創造、訴爭專利應歸屬其所有的訴請不能成立。

同時本案中最高院還指出，空氣濾清器為汽車眾多零配件之一，且為該領域常見的零配件。

應適度把握”相關性“認定的尺度，如果按照過于寬泛思路對涉及職務發明創造的權利歸屬進行認定，勢必相當于認為離職員工只要在離開原單位1年內作出的涉及任一汽車零配件的發明創造都應當然地認定為原單位的職務發明創造，由此獲得的專利權都當然地歸屬原單位，這種思路無異于實質性剝奪了離職員工獨立發揮職業技能進行技術創新的機會，不適當地限縮了員工基于個人職業規劃重新作出擇業選擇的正常流動空間，進而導致在原單位、離職員工以及離職員工新任職單位三者之間出現明顯的利益失衡，顯然并不足取。

在以往的司法實踐中，關于“有關”的判斷標準和尺度并不統一。

通過該案，最高院細化了判斷標準，明確了判斷的尺度，即不能按照技術領域相關這種過于寬泛思路對涉及職務發明創造的權利歸屬進行認定，而應綜合考慮發明人在原單位的工作內容及在原單位接觸相關技術方案并將其帶到新單位申請專利的可能性，同時應該考慮原單位、離職員工以及離職員工新任職單位三者之間的利益平衡。

聚焦HKMG工藝，探究中國28nm制程技術升級路徑

自2022年中芯國際（SMIC）成功量產28nm產品以來，我國集成電路的產業化技術已進入28nm制程的高端主流工藝節點。

作為28nm制程的主要技術方向之一，采用“金屬柵極（Metal Gate）+高介電常數絕緣層(High-k)”的柵結構（以下簡稱“HKMG”），能夠有效解決柵介質薄弱導致的漏電或多晶硅柵耗盡效應等一系列問題，并可提供較佳的效能表現。

因此，HKMG工藝多被運用于運算速度取向的高階電子產品，如CPU、FPGA、存儲器等。

鑒于我國的集成電路制造企業28nm的研發和量產實力仍與全球先進水平有一定差距，如何發展HKMG工藝技術成為國內集成電路產業關注的重點。

通過以HKMG工藝技術的相關中國專利為基礎，對HKMG工藝的專利布局進行分析發現該相關技術在中國的發展目前主要涉及以下特點：HKMG后柵工藝（Gate last）是目前HKMG工藝的主流工藝路線；金屬柵結構的制造技術是HKMG后柵工藝的關鍵技術；金屬柵極的化學機械研磨（CMP）技術是HKMG工藝技術升級的突破口。

一、HKMG后柵工藝技術是目前HKMG工藝的主流工藝路線 HKMG工藝在半導體業界分為兩大陣營：以IBM為代表的先柵極（Gate first）工藝技術，其特點是對硅片進行漏/源區離子注入操作以及隨后的高溫退火步驟完成之前便生成金屬柵極；以Intel為代表的后柵極工藝技術，其特點是對硅片進行漏/源區離子注入操作以及隨后的高溫退火步驟完成之后再形成金屬柵極。

其中后柵極工藝因生產的芯片功耗更低、漏電更少，尤其高性能表現突出且穩定而被各大代工晶圓廠較多的使用[1]。

“28nm集成電路HKMG工藝技術中國專利申請技術布局”（數據基于圍繞28nm制程HKMG工藝技術的核心主題進行檢索，并人工篩選所得，共553個中國專利族）。

其中，通用工藝是從專利保護角度劃分的，并非實際的HKMG工藝路線，通用工藝中包含的技術從理論上說前柵工藝和后柵工藝都可以應用，但是從專利說明書的內容來看，實施例中明確指出可應用于后柵工藝的專利數量較多。

因此結合上圖可知，后柵工藝相關專利申請數量明顯多于前柵工藝相關專利申請量，是本領域的主要工藝技術。

二、金屬柵極結構制造技術是HKMG后柵工藝的重點分支技術 后柵工藝的整個工藝步驟主要包括柵極氧化層制造、金屬柵極結構制造、偽柵結構建立、偽柵結構去除、襯底處理、源漏構造等。

從 相關專利申請的布局出發，結合技術的實際應用情況，金屬柵結構制造（金屬柵極和柵極氧化層）作為HKMG工藝區別于多晶硅柵工藝的核心特征，無疑是最核心的技術；其次是偽柵結構的制造和偽柵結構的去除，這幾項技術是完成高K柵結構制造和實現后柵極工藝中替代柵極工藝流程的關鍵，是各大公司和研究機構必然也必須關注的重點技術。

三、金屬柵極的化學機械研磨技術是HKMG工藝技術升級的突破口 金屬柵極的化學機械研磨（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術，在后柵工藝產業應用中主要指Al柵極的CMP技術。

從目前的發展來看，各公司的28nm制程HKMG工藝2011年陸續實現量產后，主體工藝流程和技術路線已經定型，改進的空間有限。

而Al柵極的CMP是由于HKMG工藝引進金屬柵極材料而新增的工藝步驟，一方面發展時間較短，技術尚未完全成熟，一方面相對獨立，不會對主體工藝流程和技術路線產生影響。

因此既存在改進的空間，又有改進的需求，是未來28nm制程HKMG工藝提升工藝水平的一個重要突破口。

Al柵極的CMP目前一般有兩種技術路線，一是PMOS/NMOS的金屬柵極CMP分開進行，代表企業是臺積電和中芯國際；二是PMOS/NMOS的金屬柵極CMP一起進行，代表企業是聯華電子。

目前關于Al柵極CMP的專利布局還比較少，主要是圍繞工藝方法優化和防止腐蝕兩個技術問題。

相對于HKMG的其他分支技術來說，Al柵極的CMP在技術研發和專利布局兩個方面都存在較多的空白點，是未來本領域專利布局和技術升級的重要突破口。

自主知識產權與國產大飛機

C919國產大飛機在浦東國際機場試飛成功， 其中，出現頻率最多的一個詞是“自主知識產權”。

隨著新聞對C919具有完全自主知識產權的宣傳，各界也對“C919是否可以稱得上完全自主知識產權”提出了質疑， 援引C919的總設師吳光輝的解釋是：“就飛機整體設計而言擁有完全自主知識產權”。

那么究竟什么是“自主知識產權”？自主知識產權亦稱“自有知識產權”。

一般指與非自主知識產權相對應的，在一國疆域范圍內由本國公民、企業法人或非法人機構作為知識產權權利主體，對其自主研制、開發、生產的“知識產品”（如計算機軟硬件、網絡信息產品等），及獲得許可購買他國或他人專利、專有技術、商標、軟件等所享有的一種專有權利。

也可以簡單地理解為只要是自己研究出來，沒有借鑒其他人的經驗，就可以叫擁有自主知識產權，可以包括申請專利的方案和不公開的技術秘密等。

具體地，就國產大飛機而言，C919的機頭、機身、機尾、機翼等外面的“殼子”來自中國的成飛、洪都、沈飛、西飛等企業，而發動機、發電和配電系統、輪胎和剎車、飛控等部分都來自外國供應商。

C919飛機體長38.9米，寬35.8米，如此龐大的飛機包含的零部件要以萬為單位計算，雖然C919的很多部件來自外國供應商，但是，C919機體的外形和內部布局，從設計、計算、試驗、組裝等均為中國自己設計完成的，想將C919這個龐然大物組裝起來，各個部件能夠配合完成正常工作，成為一架具有國際先進水平的新一代民航客機，絕對不是一件容易的事情，這其中需要很多的調試和改進，并且C919作為一個非常復雜、先進的飛機，利用全球資源實現最好的效果，也是個最佳選擇。

也就是說，我們可以這么理解：C919飛機的氣動設計、結構設計、系統設計需求均由中國商飛公司提出，然后根據需求在全球完成采購，選擇符合要求的零部件進行組裝。

另外，總體集成本身正是大飛機制造的核心技術之一，就連波音飛機也是全球采購零部件，在波音飛機四五百萬個零部件中，包括導航、發動機等超過50%的配套也是在全球采購的。

從這些方面來看，針對飛機整體設計，C919可以認為是具有自主知識產權的，原因包括三個方面：

第一、根據市場需求，自主提出設計方案。

第二、采購符合設計方案的零部件。

第三、將大量零部件系統集成。

C919總設計師吳光輝說：C919設計研制中有多項重大技術突破，比如超臨界機翼的設計。

飛機設計，氣動先行，機頭、后體的設計也關系到飛機阻力的減小，但機翼的設計決定了飛機的性能，是最為關鍵的。

我們第一次自主設計超臨界機翼，就達到了世界先進水平，得到了國際同行的認可。

此外，新材料的應用是C919的一大亮點。

C919是第一次大范圍地采用鋁鋰合金的機型，我們為此經過了十年的探索，鋁鋰合金的供應商是按照我們的要求改善了材料的特性，使之能夠更好地適用于C919飛機。

據介紹，C919從機體結構件到機載系統設備，從機頭試驗到機尾復合材料應用，大量采用了自主知識產權的新技術、新材料、新部件，其中包含有反推裝置技術、主動控制技術等102項關鍵技術突破。

在新材料使用上，C919飛機通過自主研發，首次成功應用專利“3D打印鈦合金零件”，并在機身蒙皮和長桁結構上使用了第三代鋁鋰合金專利新材料。

相較于傳統鋁合金，鋁鋰合金的強度和剛度更高、損傷容限性能、抗疲勞、抗輻射的性能更強，可以大大提高飛機的壽命。

檢索 國內已公開的專利文件，截止2022年7月2日，以“中國商用飛機有限責任公司為申請人”的已公開專利共有897件，其中，有權的專利為593件，發明和發明授權有373件，實用新型172件，外觀設計為48件，專利的數量還是非常龐大的，再加上也不排除有一些尚未公開，或者一些核心技術作為技術秘密沒有申請專利或者申請了國防專利等當前我們無法檢索到。

由于發明專利在審理過程中審查員會檢索國內外的對比文件，只有在相對于國內外的所有公開文件都具有新穎性和創造性的前提下才會授權，這在一定程度上能夠體現出中國商用飛機有限責任公司在整個飛機中的多個部件確實是進行了重新設計或改進的，相對于國內外的現有技術方案具有的突出的實質性特點和顯著的進步，這樣看來，中國商用飛機有限責任公司的C919大飛機聲稱擁有自主知識產權并不存在虛假宣傳，而是實打實的真有多項專利權！ 擁有核心技術，并且申請專利獲得授權，就可以以公開換取專利法的保護，這樣才能夠掌握主動權，不受制于他人，甚至制約別人不能制造和銷售侵權產品，才叫真正擁有了自主知識產權。
更多關于 職務發明創造糾紛，如何判斷與本職工作有關？ ，聚焦HKMG工藝，探究中國28nm制程技術升級路徑 的資訊，可咨詢 樂知網。

(樂知網- 領先的一站式知識產權服務平臺，聚焦 專利申請，商標注冊 業務)。

關鍵詞： 申請專利 專利代理 ?