今天，樂知網律師 給大家分享： 專利侵權賠償額的計算講解，從現有技術結合的可能性看是否存在技術啟示。

專利侵權賠償額的計算講解

我國專利侵權的損害賠償采用補償性原則，即權利人獲得的賠償數額是用來補償其實際損失的，不應該超出其實際損失。

根據專利法第六十五條第一款的規定，專利權人因侵權所受的實際損失按照以下順序依次適用：權利人因被侵權所受到的實際損失；侵權人因侵權所獲得的利益；參照該專利許可使用費的倍數；法定賠償等。

我國目前專利侵權的賠償額度大部分在什么范圍呢？國家知識產權局2022年發布的《2022年中國專利調查報告》，報告指出2022年“賠償額度在10萬元以下和無賠償”所占的比例為66.4%，賠償額度在500萬以上僅為0.7%；2022年“賠償額度在10萬元以下和無賠償”所占的比例為72.1%，賠償額度在500萬以上為2.4%。

為什么專利侵權法院判定賠償額度普遍偏低？目前造成這一現象的主要原因為舉證困難。

根據“誰主張、誰舉證”的原則，權利人應對自己所受的損失承擔舉證責任。

而權利人因侵權所受的損失，受市場占有率、季節性需求等多種因素影響，舉證非常困難。

關于侵權人因侵權所獲得的利益，盡管根據《最高人民法院關于審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋（二）》第二十七條規定，在權利人已經提供被告侵權獲益的初步證據下，而相關證據的賬簿、資料主要由侵權人掌握，此種情況下，人民法院可以責令侵權人提供該賬簿、資料，但是該條款也不能完全適用舉證責任倒置，需要權利人提供初步證據。

而且在實際操作中，侵權人往往不會如實、完整地提供相關賬簿、資料等證據。

至于依據參照專利許可使用費的倍數確定賠償額度，在司法實踐中適用比例較低。

目前專利侵權的賠償額度大部分由審判機構根據專利權的類型、侵權行為的性質和情節等因素酌定判賠，法院判定賠償額度普遍偏低。

司法實踐中，往往因專利權人提供的證據不充分，法院直接適用法定賠償，而法定賠償普遍較低。

如何切實保護專利人的合法權益，加大專利侵權賠償額度呢？（2022）最高法民再111號案提供了專利侵權判賠額度的最新認定機制，下面我們一起學習最高院針對該類專利侵權案件的判賠思路吧。

案情簡介：蔣國屏為“一種PTC發熱器的導熱鋁管及PTC發熱器”的實用新型專利的專利權人，無錫國威陶瓷電器有限公司（簡稱國威公司）為本案專利的獨占實施被許可人。

國威公司、蔣國屏以常熟市林芝電熱器件有限公司（簡稱林芝公司）生產、銷售的空調PTC加熱器侵害其專利權為由，提起訴訟，要求停止侵權行為，賠償其經濟損失及合理支出共計1500萬元。

相關賠償證據：

（1）到廣東美的所作調查筆錄、美的出具物料清單及與林芝供貨協議； （2）至TCL所作的調查筆錄、物料清單和合同復印件； （3）海信（浙江）出具的情況說明； （4）海信（山東）出具的調查令回復函、匯總表、電加熱樣品等證據。

一審法院認為本案被訴侵權產品落入本案專利的保護范圍。

但因國威公司、蔣國屏提交的證據不能證明其因侵權所受的損失或者被告侵權獲益的數額，故一審法院酌定判決林芝公司賠償國威公司、蔣國屏經濟損失100萬元。

二審法院認為訴侵權產品未落入本案專利的保護范圍，駁回國威公司、蔣國屏的全部訴訟請求。

再審法院經審理認為侵權產品落入本案專利的保護范圍。

關于侵權民事責任的承擔，在侵權行為可分的情況下，存在可以較為精確計算侵權人獲益的部分，又存在難以計算權利人損失或者侵權人獲益的部分，計算侵權損害賠償時，再審法院優先采用侵權獲益來判賠損失；對難以計算損失部分采用法定賠償。

再審法院經審理判定被告林芝公司賠償國威公司、蔣國屏經濟損失9，437，867元。

具體賠償金額計算如下：

再審法院首先依據證據4計算林芝公司侵權獲益，依據“侵權產品銷售總金額×利潤率×專利技術對產品價值的貢獻度”計算賠償數額。

首先，關于侵權產品銷售總額的計算。

原告提供了林芝公司向海信（山東）供貨的九個型號（包含侵權部件）產品的供貨數量和金額證據，七個相關信號產品的實物證據。

再審法院認為以上證據能證明林芝公司因侵權所獲得的利益。

但林芝公司銷售該侵權產品的金額應采用不含稅金額，再審法院計算得出該不含稅金額為114，371，557元。

其次，關于林芝公司銷售侵權產品的利潤率，林芝公司一審爭辯利潤率10-15%，再審法院還根據江蘇省宜興市正大稅務師事務所出具的報告，國威公司12種產品中，最低銷售利潤率為16.54%，最高銷售利潤率為32.04%，再審法院酌定利潤率15%。

最后，關于本案專利對于侵權產品利潤的貢獻度，再審法院鑒于該專利具有諸多有益效果，并提高可靠性和降低成本等，可見本案專利對PTC發熱器的市場起到了重要作用。

考慮到PTC發熱器還包括其他部件，不宜將侵權產品的利潤全部歸因于本案專利。

此外，再審法院還考慮到被告無正當理由拒不參加庭審，認定該專利貢獻度為50%。

再審法院認定林芝公司在向海信（山東）公司銷售被訴侵權產品過程中因侵犯本案專利權獲得的利益計算如下：114，371，557元×15%×50%=8，577，867元。

在侵權獲益難以確定的情況下，再審法院適用法定賠償。

本案證據1-3僅記載了物料編碼或供貨金額，但從物料編碼及供貨金額難以確定侵權產品所占供貨比例，因此證據1-3不能證明林芝公司因侵權所獲得的利益，且本案無合理的專利許可使用費參照，考慮到本專利的類型，林芝公司侵權的規模、持續時間等，判賠林芝公司賠償本案專利權人損失80萬元。

關于制止侵權的合理支出，考慮到委托公證、調查取證和委托律師參與訴訟行為等行為必然會發生相應支出，法院酌定林芝公司應予賠償本案專利權人的合理開支為6萬元。

故再審法院判定林芝公司賠償原告經濟損失9，377，867元，為制止侵權行為所支付的合理開支60，000元，共計9，437，867元。

從現有技術結合的可能性談是否存在技術啟示

一。引言 根據《專利審查指南》，判斷要求保護的發明相對于現有技術是否顯而易見，通常可按照以下三個步驟進行。

(1)確定最接近的現有技術 (2)確定發明的區別特征和發明實際解決的技術問題 (3)判斷要求保護的發明對本領域的技術人員來說是否顯而易見 在該步驟中，要從最接近的現有技術和發明實際解決的技術問題出發，判斷要求保護的發明對本領域的技術人員來說是否顯而易見。

判斷過程中，要確定的是現有技術整體上是否存在某種技術啟示，即現有技術中是否給出將上述區別特征應用到該最接近的現有技術以解決其存在的技術問題的啟示，這種啟示會使本領域的技術人員在面對所述技術問題時，有動機改進該最接近的現有技術并獲得要求保護的發明。

如果現有技術存在這種技術啟示，則發明是顯而易見的，不具有突出的實質性特點。

可見，在判斷過程中，需要從整體上對現有技術進行考量，確定其是否存在技術啟示，使本領域技術人員有動機對現有技術做出改進，并最終獲得要求保護的發明。

實踐中，現有技術中是否存在技術啟示往往是爭議的焦點。

本文結合一案例，從現有技術相互結合的可能性這一角度論述是否存在技術啟示使得本領域技術人員有動機結合現有技術以獲得要求保護的發明。

二。案例 該案涉及一行政訴訟案，案情如下：

（一）：復審決定所針對的權利要求1如下：

1。 一種層疊反射結構，其提供在具有平坦表面的基板的表面上，其通過層疊多個層來形成，且在層疊方向上它的橫截面形狀是一個由絕緣層覆蓋的圓角凸起形狀，所述的多個層包括一由銀或含銀合金制成的銀層、一提供在所述平坦表面與所述銀層之間的粘合層和一保護所述銀層的阻擋層，所述阻擋層提供在所述銀層的表面上，…。

（二）復審決定意見：

復審決定認為，對比文件1中披露了一種層疊結構（如圖2所示），權利要求1與對比文件1的區別技術特征在于：1）在層疊方向上它的橫截面形狀是一個圓角凸起（如圖1中14A、14B、14C所指的部位）；2）…。

基于上述區別特征，權利要求1相對于對比文件1實際要解決的技術問題是：改善沉積在層疊結構上的絕緣層或保護層的粘合作用。

然而，對比文件2披露了一種層疊電極結構，其在層疊方向上是前向的錐形（如圖3的200s所指）。

該特征在對比文件2中的作用是改善沉積在疊層結構上的絕緣層或保護層的階梯覆蓋。

根據對比文件1的啟示，本領域技術人員很容易想到對層疊結構的橫截面形狀進行調整，將層疊結構的側壁面的平面形狀調整為圓角凸起的形狀，這種調整不需要付出創造性勞動，并且也沒有帶來預料不到的技術效果。

主要基于上述理由，認為權利要求1相對于對比文件1、2和公知常識的結合不具備創造性。

申請人對復審決定不服，向法院提出行政起訴請求。

（三）一審法院意見 一審法院在判決書中指出：雖然原告認為本領域技術人員即使采用對比文件2所述方法蝕刻對比文件1的層疊結構，也難以預測橫截面形狀，因此本領域技術人員不可能想到將對比文件2的形成前向的錐形截面方法應用于對比文件1的層疊結構中。

但本申請權利要求1所要求保護的系一種結構組成，而非制造方法和工藝。

因此，原告的該項理由缺乏依據，本院不予支持。

（四）原告意見：

原告對一審判決不服，提出上訴，部分理由要點如下：

本發明涉及一種適于作為反射電極的層疊結構及其制造方法，解決的技術問題是：為減少層疊機構的光損失，用銀或其合金制作反射電極，但需在銀上提供緩沖薄膜層以抑制Ag的腐蝕，由此用常規的濕法刻蝕難以獲得滿意圖案。

對比文件1涉及多層導電膜，其主要目的在于提供一種存儲穩定性高不易隨時間退化的導電膜。

其主要是通過在銀基膜上施加初級氧化物材料以及至少一種次級氧化物材料作為透明電極層而實現的。

對比文件2涉及TFT液晶顯示器裝置，旨在通過防止堆疊的線部分中斷或造成短路等缺陷來提高成品率。

其是通過使不同的層處于不同腐蝕電位，從而實現不同層有不同的蝕刻率，形成錐形端面，實現階梯覆蓋。

上訴人認為，本領域技術人員沒有動機結合對比文件1和2，理由如下：

對比文件1和2未給出相互結合的啟示，而且即使二者結合也難以合理預期得到權利要求1的技術方案。

復審決定以及一審判決中，對于上述區別特征1）分兩步來論述，第一步是找一個中間的過渡特征，即錐形形狀；第二步將錐形形狀調整為圓角凸起。

首先，對于第一步來說，對比文件1、2中整體上未給出相互結合的啟示。

對比文件1和2存在顯著差異（后面詳述），本領域技術人員面臨多重技術障礙將二者結合，這阻卻本領域技術人員產生將對比文件2的特征應用于對比文件1的層疊結構的動機。

上訴人認為，不能僅僅根據對比文件2中的錐形截面就認為能夠將其結合到對比文件1中。

半導體領域中，對于期望獲得的特定的截面形狀，不同的層疊結構（材料、結構各不相同）往往對應于不同的蝕刻方法，即便采用相同的蝕刻方法，也難以獲得相同的橫截面形狀。

具體來說，對比文件1和2所公開的層疊結構在層數、各層的材料、采用的蝕刻劑以及最終得到的橫截面形狀等方面均不同。

例如，對比文件2中的兩層為不同材料，分別設置不同的腐蝕電位，以實現不同的蝕刻速度。

而對比文件1中為三層結構，若將形成對比文件2的錐形結構的方法應用到對比文件1中，如何設置腐蝕電位？采用何種蝕刻劑才能獲得預期的形狀？如何設置其他參數？這些問題都是本領域技術人員無從知曉的。

本領域技術人員知曉，由于蝕刻工藝的復雜性，為了實現特定的形狀，需要滿足嚴格的蝕刻條件。

由對比文件2中的描述可知：即便是為了簡單地控制側壁的錐形角度，也必須改變很多參數，例如層疊結構的組成、每一層的厚度、蝕刻劑的種類等等。

考慮到對比文件1和2各自針對的技術問題及其技術方案的顯著區別，本領域技術人員意識不到用對比文件2的特征來改進對比文件的技術方案的必要性。

退一步說，即使將二者結合也難以預測能夠得到具有“向前的錐形”的橫截面，更談不上獲得“圓角凸起”。

其次，對于第二步來說，從錐形到圓角凸起：

不同于機械領域，半導體器件形狀的改變需要非常復雜的工藝，不是想要獲得何種形狀就能夠很容易地實現的。

不能脫離具體的工藝水平，復雜程度，簡單生硬的進行結合。

而且現有技術未披露過圓角凸起形狀，自然不會是公知常識，真的是公知常識的話，應該是俯首皆是。

此外，上訴人提供了兩份證據，表明濕法蝕刻會使得對比文件1中形成凹的而不是凸起的形狀。

所以，采用對比文件1和2中的濕法蝕刻技術是無法獲得權利要求1中所限定的這種圓角凸起形狀的，甚至錐形形狀都無法獲得。

再退一步說，假設結合后獲得了錐形形狀，將錐形形狀調整為圓角凸起形狀，也是極其困難的。

針對一審判決中的觀點，上訴人認為，本領域技術人員基于對比文件1的教導，如果試圖結合對比文件1和2以獲得權利要求1要求保護的結構，必然面臨如何結合的問題，也就是說，必然要面臨采用何種工藝實現該結構的問題，而不能脫離對比文件的教導憑空得到權利要求的方案。

因此，認為不需要考慮工藝是不合理的。

盡管申請人提出了非常詳盡的理由，二審法院依然以與一審法院類似的理由維持駁回決定。

三。對該案例的一些思考 （1）該案的爭議焦點主要在于對比文件1和2中是否給出了相互結合以得到本發明權利要求1的技術方案的啟示。

更具體說，雖然權利要求1請求保護一種產品，其中限定了結構組成，但是考慮對比文件1和2的結合可能性時是否要考慮制造方法和工藝。

一方面，審查指南中明確規定的是：判斷是否顯而易見的過程中，要確定現有技術整體上是否存在某種技術啟示，會使本領域的技術人員在面對所述技術問題時，有動機改進該最接近的現有技術并獲得要求保護的發明。

需強調的是，此處明確規定了“獲得”，所以必須要考慮其結合的可能性，即，能夠合理預期在結合后得到所要求保護的發明。

如果基于現有技術的教導，結合后難以或者根本無法獲得要求保護的發明，則不能認為技術方案是顯而易見的。

不考慮后果的動機不是專利法意義上的動機，只能是空想。

專利法意義上的動機至少意味著這種對最接近現有技術的改進能夠合理預期得到所要求保護的發明。

在技術啟示的判斷中應：拋開本發明的方案，回到申請日前，以本領域技術人員的知識和能力并以最接近現有技術為起點進行判斷。

綜合考慮現有技術的技術領域、所解決的技術問題、采用的技術手段、產生的技術效果等，才能得出比較客觀的判斷結果。

對于該案例來說，兩篇對比文件各自均披露了一種層疊結構，二者具有不同的截面形狀，如果對于機械領域的兩個零件來說，可能直接根據一個截面的形狀對另一個截面的形狀進行修改，并在此基礎上進一步調整。

然而，對于工藝非常精密的半導體領域來說，其設備昂貴、制造工藝非常復雜，對其制造工藝的改進可謂牽一發而動全身。

對于通過不同工藝、不同材料、不同蝕刻劑而得到的兩種截然不同的結構而言，一般來說，本領域技術人員難以有動機僅僅根據一個截面的形狀而直接考慮改進另一個截面的形狀。

所以說，不能簡單地拼湊現有技術來否定創造性。

另一方面，如本申請說明書中所述“使用常規的用于將銀圖案化的濕式蝕刻技術，第一電極滿意的圖案化變得困難。

原因是在銀層與緩沖薄膜層的蝕刻速率之間有差值，以至于只有在銀層中的蝕刻可以迅速的進行。

當第一電極的形狀不合格時，覆蓋第一電極側表面的絕緣膜就會沉積失敗或成孔，導致引發有機發光元件的缺陷。

用于銀的干式蝕刻技術至今沒有進展。

” 本發明充分考慮到現有的濕式和干式蝕刻的缺陷，選用適當的蝕刻氣體，控制氣體流量，對各個層同時進行干式蝕刻，實時監控截面的形狀，并及時對蝕刻參數進行調整，由此實現了圓角凸起的截面形狀。

而且形成的圓角凸起與錐形橫截面相比具有更好的改善沉積在該層疊結構上的絕緣層或保護層的粘合作用。

可見，本申請通過采用上述技術手段，克服了現有技術中的技術難題，取得了顯著的技術效果，不付出創造性勞動是不可能實現的。

專利布局的重要性講解

小米公司，是如何在短短幾年時間內研制出性能強勁且售價低廉而席卷中國市場的產品呢？ 就像戴森公司憑借自身的馬達技術而統治了手持式吸塵器領域一樣，目前在掃地機器人領域中最關鍵的技術指標在于SLAM算法，這種算法通過從傳感器所獲得的數據來構建房間地圖，同時知曉掃地機器人本身在整個地圖區域中的位置以規劃最優的清掃路徑，SLAM算法的應用從根本上改進了傳統掃地機器人需要持續碰撞障礙邊界以獲得區域信息的問題。

而作為已先行研究三十余年的SLAM技術，將其應用到掃地機器人領域絕非意想不到的，但小米公司所制造的產品實際上卻并不涉及專利侵權問題。

根據專利檢索得知，作為掃地機器人行業的龍頭企業，美國iRobot公司直至2014年之前僅在中國申請了極少數量的專利，未達到足夠的專利布局，而在其他國家，比如在美國本土，關于掃地機器人的整體結構、傳感器、探測器、算法、遠程控制方法、障礙物探測方法等等技術方面都通過各個基礎的專利布局，造成這種現象的原因可能是美國iRobot公司對于中國經濟發展及市場需求的嚴重估計不足所造成的。

直到2014年之后，由于某中國公司對其提出的一項無效請求，才使美國iRobot公司認識到了其在中國市場的問題，迄今為止，已在中國布局了70余項申請從而達到專利布局。

由于缺乏在中國的適當專利布局，美國iRobot公司相當于在中國無償貢獻了其全部的基礎專利，而有足夠眼光的其他企業能夠以很小的代價站在先行者的肩膀上進行改進，以低廉的成本制造出性能更加卓越的產品，從而快速占領市場。

然而，可以預想到的是，隨著美國iRobot公司不斷會有新的中國專利申請和授權，基于其本身強大的品牌號召力和技術儲備，留給像小米一樣的公司的市場空間會受到不斷的擠壓。

但從另一個角度來看，借助于美國iRobot公司前期專利布局的疏漏，其他科技公司通過已經占領的市場份額以及在后續的人工智能掃地機器人方面的持續創新，仍將能在中國乃至世界市場上大有可為，而借助于這樣打破壟斷的市場競爭所帶來的技術進步，對于像筆者一樣的普通消費者而言也能享受科技進步帶來的紅利，這也正是體現了專利制度為社會進步所帶來的積極效應。


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