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專利申請中,兩個上位概念有重疊,會互相影響新創性嗎?

專利代理 發布時間:2021-10-20 16:26:59 瀏覽: 194 次


有人問樂知網小編,專利申請中,兩個上位概念有重疊,會互相影響新創性嗎?

答:
新穎性,是指該發明或者實用新型不屬于現有技術;也沒有任何單位或者個人就同樣的發明或者實用新型在申請日以前向專利局提出過申請,并記載在申請日以后(含申請日) 公布的專利申請文件或者公告的專利文件中。
 
新穎性的判斷只能引用一篇對比文件。
 
對于,本申請記載的上位概念,和現有技術的上位概念有重疊的部分,新穎性如何判斷,可以參照數值范圍的例子。
 
判斷原則:對比文件公開的數值或者數值范圍落在上述限定的技術特征的數值范圍內,將破壞要求保護的發明或者實用新型的新穎性。
 
例1
專利申請的權利要求為一種銅基形狀記憶合金,包含10%~35%(重量)的鋅和2%~8%(重量)的鋁,余量為銅。
如果對比文件公開了包含20%(重量)鋅和5%(重量)鋁的銅基形狀記憶合金,則上述對比文件破壞該權利要求的新穎性。
 
例2
專利申請的權利要求為一種熱處理臺車窯爐,其拱襯厚度為100~400毫米。
如果對比文件公開了拱襯厚度為180~250毫米的熱處理臺車窯爐,則該對比文件破壞該權利要求的新穎性。


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