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專利申請(qǐng)權(quán)利要求書書寫規(guī)則，專利權(quán)利要求書的7步寫法

1。步驟一：確定核心區(qū)別技術(shù)特征和關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn) 權(quán)利要求書撰寫7步法的第一個(gè)步驟需要完成兩件事情：是根據(jù)與現(xiàn)有技術(shù)相比較獲得的最核心的區(qū)別技術(shù)特征，并用一句話概括；以及找出最具有創(chuàng)造性的關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。

第一步是最為關(guān)鍵的步驟，這一步驟需要確定權(quán)利要求撰寫的兩個(gè)關(guān)鍵內(nèi)容問(wèn)題，即核心區(qū)別特征和關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。

在撰寫權(quán)利要求中，我們的要求是“頂天立地”。

所謂天，就是盡可能獲得的最大的保護(hù)范圍；頂天，就是要求獨(dú)立權(quán)利要求能夠盡可能的展開(kāi)到這個(gè)可能的最大的保護(hù)范圍。

申請(qǐng)專利的目的，當(dāng)然是要保護(hù)自己的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，但權(quán)利的范圍并不是有了技術(shù)方案就可以確定的，而是要依賴撰寫人的充分思考，抽象概括后確定的，撰寫質(zhì)量好的文件能夠使申請(qǐng)人獲得遠(yuǎn)超預(yù)期的保護(hù)范圍，增加侵權(quán)訴訟的力度；而撰寫質(zhì)量不佳的文件，則會(huì)極大的減少保護(hù)范圍，甚至使權(quán)利保護(hù)事實(shí)上成為泡影。

專利申請(qǐng)的技術(shù)性在這一點(diǎn)上得到最充分的體現(xiàn)。

所謂地，就是盡可能獲得專利授權(quán)，或者保證專利能夠順利通過(guò)無(wú)效程序。

立地，就是要針對(duì)撰寫過(guò)程中并不知曉、但審查員審查時(shí)可能檢索到的現(xiàn)有技術(shù)，保障申請(qǐng)文件最終能夠獲得授權(quán)。

對(duì)于撰寫人而言，撰寫時(shí)盡管可能經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單的檢索，但是所付出的時(shí)間以及檢索的環(huán)境、檢索經(jīng)驗(yàn)，都不可能與專利審查員相比，更不要說(shuō)面對(duì)無(wú)效過(guò)程中的無(wú)休止不計(jì)成本的檢索過(guò)程了。

所以，在撰寫時(shí)，撰寫人實(shí)際上需要面對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的“迷霧”，如何盡可能增加授權(quán)可能性，就成為撰寫的核心問(wèn)題。

如果將權(quán)利要求撰寫比喻為和審查員討價(jià)還價(jià)的過(guò)程，則頂天的要求，就像是賣方第一次出價(jià)，要價(jià)要高而合理；立地的要求，就是賣方期望的最后保底價(jià)，這個(gè)保底價(jià)實(shí)際上就是要能夠成交即可，對(duì)于大多數(shù)權(quán)利人而言，獲得專利授權(quán)，即使范圍很小也是有意義的。

如何確定一個(gè)技術(shù)方案的最大的保護(hù)范圍呢？其關(guān)鍵還是找到與最接近現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別技術(shù)特征。

這個(gè)區(qū)別技術(shù)特征找到了，則獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫方向就有了依據(jù)。

所謂最核心區(qū)別特征，就是能夠使本技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)相互區(qū)別、并且又能夠使該待申請(qǐng)的技術(shù)方案保護(hù)范圍最大的技術(shù)特征。

從理想來(lái)說(shuō)，這個(gè)技術(shù)特征是恰好能夠站在待申請(qǐng)技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)的邊界上，并清晰的表明待申請(qǐng)技術(shù)站在邊界的這一邊的特征。

在核心區(qū)別技術(shù)特征確定后，還要確定關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)。

關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)是該技術(shù)方案的具體實(shí)施方式中，需要特別關(guān)注的技術(shù)特征；該技術(shù)特征與核心區(qū)別特征不同，它不是該技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)的邊界，而是該技術(shù)方案的優(yōu)選實(shí)施方式中解決了關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn)的技術(shù)特征，或者是構(gòu)思最巧妙、最難被本領(lǐng)域技術(shù)人員想到的技術(shù)特征；或者是使該技術(shù)方案具有顯著特點(diǎn)的一個(gè)技術(shù)點(diǎn)。

關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)很可能不只有一個(gè)，因?yàn)橐粋€(gè)技術(shù)方案可能存在多個(gè)技術(shù)難點(diǎn)。

另外，在一些改進(jìn)較小的技術(shù)方案中，很可能出現(xiàn)關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)和核心區(qū)別特征高度重合的情況。

找出關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)的意義在于為權(quán)利要求的布置提供方向，關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)應(yīng)該在從屬權(quán)利要求中進(jìn)行重點(diǎn)的分層次布置。

2。步驟二，確定最小技術(shù)特征集，構(gòu)造核心獨(dú)立權(quán)利要求 權(quán)利要求書撰寫7步法的第二步，需要根據(jù)上述步驟一確定的核心區(qū)別特征，構(gòu)造最小技術(shù)特征集，根據(jù)最小技術(shù)特征集組成核心獨(dú)立權(quán)利要求。

核心區(qū)別特征確定為一句話后，還需要為其構(gòu)造最小技術(shù)特征集。

這是由于，權(quán)利要求必須是一個(gè)完整的技術(shù)方案，而核心區(qū)別技術(shù)特征的“一句話描述”，抓住的是希望形成的這個(gè)完整的技術(shù)方案的核心，它突出體現(xiàn)該技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)之間的區(qū)別技術(shù)特征；但顯然這句話并非完整的技術(shù)方案。

為此，需要以“一句話描述”為中心，展開(kāi)完整的技術(shù)方案。

我們知道，一個(gè)完整的技術(shù)方案包含很多技術(shù)特征，首先要做的，就是把體現(xiàn)核心區(qū)別特征的完整技術(shù)方案的必不可少的技術(shù)特征均找到，在這一步中，絕對(duì)不能引入一些并非必須的技術(shù)特征；所以，這些技術(shù)特征組成的技術(shù)特征集被稱為“最小技術(shù)特征集”。

最小技術(shù)特征集和核心獨(dú)立權(quán)利要求的形成是相互促進(jìn)的。

完全可能首先從對(duì)核心區(qū)別特征的“一句話描述”開(kāi)始，考慮核心獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫，反過(guò)來(lái)確定最小技術(shù)特征集。

但是，最小技術(shù)特征集的形成仍然是有必要的，因?yàn)椋@個(gè)形成過(guò)程明顯促進(jìn)了對(duì)核心獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫或者審核，可以有效的避免引入不必要的技術(shù)特征，以及保證同樣的事物采用同樣的名稱描述，避免不清楚的問(wèn)題。

3。步驟三，審定核心權(quán)利要求的技術(shù)主題 上述核心權(quán)利要求確定后，反過(guò)來(lái)可以確定核心權(quán)利要求的技術(shù)主題。

因?yàn)?，原?lái)的技術(shù)主題是在形成該核心權(quán)利要求前就形成的。

該技術(shù)主題沒(méi)有考慮核心權(quán)利要求包含的所有技術(shù)特征可能擴(kuò)展的范圍，很可能，原先的技術(shù)主題會(huì)過(guò)窄或者過(guò)寬。

當(dāng)然，一般是過(guò)窄。

另外，審定技術(shù)主題過(guò)程中，也可能出現(xiàn)原先技術(shù)主題過(guò)寬需要收窄的可能，這在申請(qǐng)實(shí)用新型時(shí)更有可能，因?yàn)閷彶閱T評(píng)價(jià)發(fā)明和實(shí)用新型的創(chuàng)造性時(shí)，可以考慮的技術(shù)領(lǐng)域有差別。

發(fā)明可以考慮的對(duì)比技術(shù)的技術(shù)領(lǐng)域更寬，縮小其技術(shù)領(lǐng)域?qū)μ嵘l(fā)明創(chuàng)造性的意義不大，而實(shí)用新型可以考慮的對(duì)比技術(shù)的技術(shù)領(lǐng)域比較窄，對(duì)實(shí)用新型有時(shí)有一定意義。

因此，對(duì)不同的申請(qǐng)類型，其技術(shù)主題的寬窄考慮也不同。

4。步驟四，校對(duì)核實(shí)核心獨(dú)立權(quán)利要求 上述審定技術(shù)主題的過(guò)程完成后，需要在新的技術(shù)主題下，考慮原先初步撰寫的核心獨(dú)立權(quán)利要求中的一些技術(shù)特征在新的技術(shù)主題下是否合適；乘此機(jī)會(huì)，還需要進(jìn)一步思考該核心獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)特征是否可以刪減和上位，這些問(wèn)題在最初形成過(guò)程中已經(jīng)做了考慮，但是，再一次思考往往能夠檢查出新的問(wèn)題。

核心權(quán)利要求是權(quán)利要求撰寫的重中之重，反復(fù)考慮也是非常必要的。

專利申請(qǐng)權(quán)利要求書書寫規(guī)則，專利申請(qǐng)權(quán)利要求書新手撰寫常見(jiàn)錯(cuò)誤有哪些？

一、先看看《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于權(quán)利要求書的規(guī)定： 第十九條 　權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)記載發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)特征。

權(quán)利要求書有幾項(xiàng)權(quán)利要求的，應(yīng)當(dāng)用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。

權(quán)利要求書中使用的科技術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書中使用的科技術(shù)語(yǔ)一致，可以有化學(xué)式或者數(shù)學(xué)式，但是不得有插圖。

除絕對(duì)必要的外，不得使用“如說(shuō)明書……部分所述”或者“如圖……所示”的用語(yǔ)。

權(quán)利要求中的技術(shù)特征可以引用說(shuō)明書附圖中相應(yīng)的標(biāo)記，該標(biāo)記應(yīng)當(dāng)放在相應(yīng)的技術(shù)特征后并置于括號(hào)內(nèi)，便于理解權(quán)利要求。

附圖標(biāo)記不得解釋為對(duì)權(quán)利要求的限制。

第二十條 　權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)有獨(dú)立權(quán)利要求，也可以有從屬權(quán)利要求。

獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)從整體上反映發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案，記載解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。

從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)用附加的技術(shù)特征，對(duì)引用的權(quán)利要求作進(jìn)一步限定。

第二十一條 　發(fā)明或者實(shí)用新型的獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)包括前序部分和特征部分，按照下列規(guī)定撰寫： (一)前序部分：寫明要求保護(hù)的發(fā)明或者實(shí)用新型技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明或者實(shí)用新型主題與最接近的現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征； (二)特征部分：使用“其特征是……”或者類似的用語(yǔ)，寫明發(fā)明或者實(shí)用新型區(qū)別于最接近的現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征。

這些特征和前序部分寫明的特征合在一起，限定發(fā)明或者實(shí)用新型要求保護(hù)的范圍。

發(fā)明或者實(shí)用新型的性質(zhì)不適于用前款方式表達(dá)的，獨(dú)立權(quán)利要求可以用其他方式撰寫。

一項(xiàng)發(fā)明或者實(shí)用新型應(yīng)當(dāng)只有一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求，并寫在同一發(fā)明或者實(shí)用新型的從屬權(quán)利要求之前。

第二十二條 　發(fā)明或者實(shí)用新型的從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)包括引用部分和限定部分，按照下列規(guī)定撰寫： (一)引用部分：寫明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱； (二)限定部分：寫明發(fā)明或者實(shí)用新型附加的技術(shù)特征。

從屬權(quán)利要求只能引用在前的權(quán)利要求。

引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求的多項(xiàng)從屬權(quán)利要求，只能以擇一方式引用在前的權(quán)利要求，并不得作為另一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求的基礎(chǔ)。

二、再看看專利申請(qǐng)權(quán)利要求書新手撰寫常見(jiàn)錯(cuò)誤有哪些？ 1、描述結(jié)構(gòu)組成應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)術(shù)語(yǔ)“由A、B和C組成”，避免漏字導(dǎo)致的簡(jiǎn)單語(yǔ)法錯(cuò)誤； 2、權(quán)利要求書內(nèi)容應(yīng)得到說(shuō)明書的支持，如果結(jié)構(gòu)名稱前后不一致，應(yīng)修改為統(tǒng)一結(jié)構(gòu)名稱； 3、權(quán)利要求中引用的說(shuō)明書附圖標(biāo)記未置于括號(hào)內(nèi)，應(yīng)當(dāng)為該附圖標(biāo)記增加括號(hào)； 4、獨(dú)立權(quán)利要求缺少解決其技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征，所謂的必要技術(shù)特征，不僅僅包含必要的組成結(jié)構(gòu)，而且還要包含解決問(wèn)題所需的必要結(jié)構(gòu)構(gòu)造和連接方式等技術(shù)特征；

專利申請(qǐng)權(quán)利要求書書寫規(guī)則，申請(qǐng)專利的權(quán)利要求書書寫有哪些要求

一、申請(qǐng)專利的權(quán)利要求書書寫有哪些要求 1、申請(qǐng)專利的權(quán)利要求書書寫要求如下： (1)一權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)記載發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)特征。

(2)權(quán)利要求書有幾項(xiàng)權(quán)利要求的，應(yīng)當(dāng)用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。

(3)權(quán)利要求書中使用的科技術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書中使用的科技術(shù)語(yǔ)一致，可以有化學(xué)式或者數(shù)學(xué)式，但是不得有插圖。

除絕對(duì)必要的外，不得使用如說(shuō)明書……部分所述”或者如圖……所示”的用語(yǔ)。

(4)權(quán)利要求中的技術(shù)特征可以引用說(shuō)明書附圖中相應(yīng)的標(biāo)記，該標(biāo)記應(yīng)當(dāng)放在相應(yīng)的技術(shù)特征后并置于括號(hào)內(nèi)，便于理解權(quán)利要求。

附圖標(biāo)記不得解釋為對(duì)權(quán)利要求的限制。

2、法律依據(jù)：《中華人民共和國(guó)專利法實(shí)施細(xì)則》 第十九條 權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)記載發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)特征。

權(quán)利要求書有幾項(xiàng)權(quán)利要求的，應(yīng)當(dāng)用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。

權(quán)利要求書中使用的科技術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書中使用的科技術(shù)語(yǔ)一致，可以有化學(xué)式或者數(shù)學(xué)式，但是不得有插圖。

除絕對(duì)必要的外，不得使用如說(shuō)明書……部分所述”或者如圖……所示”的用語(yǔ)。

權(quán)利要求中的技術(shù)特征可以引用說(shuō)明書附圖中相應(yīng)的標(biāo)記，該標(biāo)記應(yīng)當(dāng)放在相應(yīng)的技術(shù)特征后并置于括號(hào)內(nèi)，便于理解權(quán)利要求。

附圖標(biāo)記不得解釋為對(duì)權(quán)利要求的限制。

二、外觀專利申請(qǐng)流程是什么 1、申請(qǐng)階段 申請(qǐng)外觀設(shè)計(jì)專利，專利申請(qǐng)文件應(yīng)當(dāng)包括：外觀設(shè)計(jì)專利請(qǐng)求書、圖片或者照片。

要求保護(hù)色彩的，還應(yīng)當(dāng)提交彩色圖片或者照片一式兩份。

提交圖片的，應(yīng)當(dāng)均應(yīng)為圖片，提交照片的，應(yīng)當(dāng)均應(yīng)為照片，不得將圖片或照片混用。

如對(duì)圖片或照片需要說(shuō)明的，應(yīng)當(dāng)提交外觀設(shè)計(jì)簡(jiǎn)要說(shuō)明。

委托專利代理機(jī)構(gòu)的，應(yīng)提交委托書。

申請(qǐng)費(fèi)用減緩的，應(yīng)提交費(fèi)用減緩請(qǐng)求書及相應(yīng)的證明文件。

2、審查階段 中國(guó)對(duì)外觀設(shè)計(jì)專利申請(qǐng)實(shí)行初步審查制度。

在初步審查過(guò)程中，審查員會(huì)針對(duì)申請(qǐng)文件中的形式問(wèn)題發(fā)出補(bǔ)正通知書。

申請(qǐng)人針對(duì)該通知書做出補(bǔ)正。

同時(shí)審查員會(huì)針對(duì)是否屬于外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)客戶進(jìn)行審查，若存在不屬于外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)客戶的，審查員將發(fā)出審查意見(jiàn)通知書，申請(qǐng)人針對(duì)該審查意見(jiàn)通知書進(jìn)行答復(fù)或者對(duì)申請(qǐng)文件進(jìn)行修改。

3、授權(quán)階段 (1)授權(quán)：在通過(guò)初步審查后，審查員會(huì)發(fā)出授予專利權(quán)通知書。

申請(qǐng)人在接到授予專利權(quán)通知書之后，需要辦理以下登記手續(xù)：在規(guī)定的期限內(nèi)繳納專利登記費(fèi)、授權(quán)當(dāng)年的年費(fèi)、公告印刷費(fèi)以及專利證書印花稅。

(2)頒發(fā)證書：申請(qǐng)人在辦理登記手續(xù)之后即可獲得專利證書。



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