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發明專利權利要求書中的上位和下位怎么區別？

上位和下位的區別，舉個例子，例如金屬是上位概念，銅就是下位概念了。

專利的質量一般與技術交底的創造性有關，更重要的是，代理人對專利文件的撰寫質量。

權利要求是專利文件中最為重要的部分，決定了專利的保護范圍。

為了實現高質量專利，代理人在撰寫權利要求的過程中需要注意的問題有很多，包括語言文字的描述，技術方案的邏輯，技術要點的布局等，比較常見和明顯的是在撰寫權利要求之前，對權利要求的上下位的把握的確定。

上位是指在權利要求撰寫中，通過對技術特征或者技術名詞的概括，以實現擴大保護范圍的目的。

例如，將“螺絲釘”上位成“緊固件”，將“通過螺絲釘固定”上位成“固定連接”等。

與上位相對應，在權利要求撰寫中，也有下位的概念。

下位是指將權利要求中較為概括的上位概念，具體到描述較為確切的技術特征或者技術名詞，以實現更加貼近交底書內容、更加確切的描述發明人的技術方案的目的。

例如，將“控制系統”下位為“駐車制動裝置”，將“通過控制系統進行制動”下位為“控制駐車制動裝置動作，加緊剎車片，進行制動”。

總之，上位用于擴大保護范圍，下位可以貼近技術方案，保護技術方案的眾多細節。

但是通常在權利要求的撰寫過程中，上位容易導致權利要求的創造性降低，有時候還會將現有技術納入權利要求的范圍，這樣就有創造性不足以授權的風險。

下位容易導致權利要求的保護范圍過小，權利要求所保護的技術特征，容易被規避掉。

因此，上位和下位的程度把握決定了專利撰寫的質量。

上位和下位都是代理人為了滿足客戶的需求進行的合理的撰寫技巧，因此撰寫權利要求之前，充分了解客戶需求，才能確定權利要求的撰寫層次。

上位概念不會破壞下位概念的創造性和新穎性。

因為上位的保護范圍廣，上位概念的技術特征如果能寫全面、明確的情況下，可以首選上位概念，容易形成基礎專利。

最好的基礎專利是別人沒有可以繞開的方法。

此時如果他人在此基礎上繼續申請專利，申請下位概念的專利，此時可以授權，只是不能實施，因為其專利的原型是我方的基礎專利，其要征得我方的同意才能開始實施。

但是相對的，上位概念不容易形成創造性，判斷創造性的時候，需要考慮在解決相同的技術問題的前提下，看現有技術對發明有沒有技術啟示。

另外，保護范圍大也存在更容易出現被無效的風險。

所以沒有單純的好或者不好，還是要根據具體問題，做專業化分析。

上位概念下位概念有點難界定，可以查科技術語工具書，辭源進行分析大小，能說服自己摳字眼。



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