發(fā)明專利請(qǐng)求書(shū)申請(qǐng)文件清單模板圖片
專利代理 發(fā)布時(shí)間:2023-11-24 11:18:42 瀏覽: 次
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發(fā)明專利請(qǐng)求書(shū)申請(qǐng)文件清單模板圖片
以下是發(fā)明專利請(qǐng)求書(shū)的申請(qǐng)文件清單模板,僅供參考:
發(fā)明專利請(qǐng)求書(shū)申請(qǐng)文件清單
發(fā)明專利請(qǐng)求書(shū)
說(shuō)明書(shū)
權(quán)利要求書(shū)
說(shuō)明書(shū)附圖(如有)
說(shuō)明書(shū)摘要
申請(qǐng)人信息:
a. 姓名
b. 身份證號(hào)碼
c. 聯(lián)系地址
d. 電話號(hào)碼
發(fā)明信息:
a. 發(fā)明名稱
b. 所屬技術(shù)領(lǐng)域
c. 背景技術(shù)
d. 發(fā)明內(nèi)容
e. 附圖說(shuō)明
f. 具體實(shí)施方式
權(quán)利要求書(shū):
a. 獨(dú)立權(quán)利要求
b. 從屬權(quán)利要求
說(shuō)明書(shū)附圖(如有):
a. 附圖復(fù)印件或掃描件
說(shuō)明書(shū)摘要:
a. 技術(shù)領(lǐng)域
b. 背景技術(shù)
c. 發(fā)明內(nèi)容
d. 附圖說(shuō)明
e. 具體實(shí)施方式
聲明和承諾:
a. 聲明本申請(qǐng)材料內(nèi)容真實(shí)、合法,并承擔(dān)相應(yīng)的法律責(zé)任。
其他信息:
a. 申請(qǐng)日期
b. 優(yōu)先權(quán)聲明(如有)
電子專利申請(qǐng)書(shū)申請(qǐng)文件清單如何填入
專利申請(qǐng)書(shū)的一般要求書(shū)可分為獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求兩種。
獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷闹饕夹g(shù)內(nèi)容,它包括全部的必要技術(shù)特征,其本身可以獨(dú)立存在。
它的技術(shù)特征的集合是該專利的最大保護(hù)范圍,第三人生產(chǎn)的產(chǎn)品只要不用到其中的任何一個(gè)技術(shù)特征所不構(gòu)成專利侵權(quán),因此在獨(dú)立權(quán)利要求中切勿寫(xiě)入任何非必要的技術(shù)特征,否則將不構(gòu)成侵權(quán);同時(shí),也切勿將權(quán)利要求(尤其是實(shí)用新型專利權(quán)利要求書(shū))寫(xiě)得較為寬廣,使之其權(quán)利不穩(wěn)定,易于被無(wú)效,新法修改后即更會(huì)遭遇公知技術(shù)抗辯。
從屬權(quán)利要求是引用獨(dú)立權(quán)利要求或幾項(xiàng)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征,又含有若干新的技術(shù)特征的權(quán)利要求,從屬權(quán)利要求必須依從于獨(dú)立權(quán)利要求或者在前的從屬權(quán)利要求。
每一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求可以有若干個(gè)從屬權(quán)利要求。
有多項(xiàng)權(quán)利要求的應(yīng)當(dāng)甩阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。
編號(hào)時(shí)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)排在前面,它的從屬權(quán)利要求緊隨排在后面。
(2)權(quán)利要求書(shū)的寫(xiě)法
1。獨(dú)立權(quán)利要求分兩部分撰寫(xiě):
一是前序部分:寫(xiě)明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵蟊Wo(hù)的主題名稱和該項(xiàng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦团c現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征;
二是特征部分:寫(xiě)明發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征,這是權(quán)利要求的核心內(nèi)容,這部分應(yīng)緊接前序部分,用“其特征是……”或者類似用語(yǔ)與上文聯(lián)接。
前序部分和特征部分共同限定發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷谋Wo(hù)范圍。
2。從屬權(quán)利要求也分兩個(gè)部分撰寫(xiě):一是引用部分:寫(xiě)明被引用的權(quán)利要求的編號(hào)及發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭黝}名稱。
例如:“根據(jù)權(quán)利要求1所述…”;二是限定部分:寫(xiě)明發(fā)明或?qū)嵱眯滦透郊拥募夹g(shù)特征,它是獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充,以及對(duì)引用部分的技術(shù)特征作進(jìn)一步的限定。
也應(yīng)當(dāng)以“其特征是……”連接上文。
通常,從屬權(quán)利要求書(shū)應(yīng)盡可能從多方面角度來(lái)補(bǔ)充、完善該專利的技術(shù)特征。
3。權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中常見(jiàn)的錯(cuò)誤 a。純功能性的權(quán)利要求,這是初寫(xiě)者常出現(xiàn)的錯(cuò)誤。
通常情況下,產(chǎn)品必須用結(jié)構(gòu)型的技術(shù)特征來(lái)撰寫(xiě)權(quán)利要求,方法必須用步驟或條件式權(quán)利要求,不能采用功能或混合式,這種寫(xiě)法容易超出說(shuō)明書(shū)范圍,擴(kuò)大了保護(hù)范圍。
b。對(duì)一般的改進(jìn)發(fā)明,沒(méi)有前序部分和特征部分之分;實(shí)質(zhì)是沒(méi)有劃清與現(xiàn)有技術(shù)的界限。
c。 使用了不準(zhǔn)確、不明確的詞匯。
如“等等”、“高”、“強(qiáng)”、“弱”、“性能好”、“一定厚度”等等。
d。在獨(dú)立權(quán)利要求中,有多個(gè)前序部分和多個(gè)特征部分,這種情況是沒(méi)有弄清撰寫(xiě)要求。
一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求只能有一個(gè)前序部分和一個(gè)特征部分。
e。從屬權(quán)利要求中沒(méi)有引用部分和特征部分,或者是其中引用部分的“引證”有錯(cuò)誤。
f。權(quán)利要求書(shū)得不到說(shuō)明書(shū)的支持。
即在權(quán)利要求書(shū)中寫(xiě)的技術(shù)特征,在說(shuō)明書(shū)中無(wú)相應(yīng)的文字記載,或是沒(méi)有清楚、完整的說(shuō)明。
4。撰寫(xiě)好權(quán)利要求書(shū)的一般技巧 a。詳細(xì)分析發(fā)明或?qū)嵱眯滦汀?br />
先是把技術(shù)解決方案和全部技術(shù)特征分析透,分析內(nèi)容包括是屬于產(chǎn)品發(fā)明還是方法發(fā)明,對(duì)實(shí)用新型只能是產(chǎn)品發(fā)明,確定技術(shù)領(lǐng)域,研究技術(shù)方案,分析技術(shù)特征。
b。做好檢索或查新工作,特別是申請(qǐng)發(fā)明專利一定要查新,查是否已存在同樣發(fā)明創(chuàng)造。
c。從產(chǎn)品本身的技術(shù)中認(rèn)真研究,運(yùn)用研發(fā)人員的思路盡可能多地找出特有的技術(shù)特征,分折比較后,將各個(gè)技術(shù)特征定位在不同的權(quán)利要求項(xiàng)中。
d。反復(fù)比較、醞釀不同的技術(shù)方案,從中刪選出較佳的技術(shù)方案,同一發(fā)明可能寫(xiě)出不同的權(quán)利要求書(shū)。
多寫(xiě)幾個(gè)方案有利于在反復(fù)比較過(guò)程中,確定一種正確合理的方案。
最后,相確定的權(quán)利要求書(shū)與寫(xiě)好的說(shuō)明書(shū)相比較,仔細(xì)檢查兩者的關(guān)系,這一點(diǎn)對(duì)初寫(xiě)者尤為重要。
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