今天，樂知網小編 給大家分享 應從那幾個方面進行專利挖掘與布局？，張君偉訴專利復審委員會專利行政糾紛案

應從那幾個方面進行專利挖掘與布局？

一、 應從那幾個方面進行專利挖掘與布局？ 1、專利的挖掘如何進行 以問題為導向進行專利挖掘；以競爭對手技術為導向進行專利挖掘；以項目研究為導向進行專利挖掘。

2、專利的布局如何進行 路障式布局；城墻式布局；地毯式布局；圍欄式布局。

二、企業專利挖掘的具體內容 1。 以問題為導向進行專利挖掘 企業在生產經營過程中會出現各種各樣的問題，比如說產品質量上存在缺陷，或者用戶體驗感覺較差等，這些問題往往直接影響企業的經營發展和市場競爭力。

企業可以這些問題收集、整理并分析，找出存在此類問題是技術瓶頸沒有突破還是市場方向把握不準，而后在此基礎采取頭腦風暴方式進行討論，厘清解決問題的方法、確定技術的創新點和保護方式，最后由企業管理人員、研發人員和專利代理人綜合市場、法律、技術等方面因素，篩選出最具價值并且適合企業發展的技術方案申報專利。

2。 以競爭對手技術為導向進行專利挖掘 俗話說，“知己知彼，百戰不殆”，在專利挖掘方面，更應重視競爭對手的技術研究方向，分析競爭對手專利挖掘和布局的重點，而后采取針對性的專利挖掘策略。

企業在進入某一市場時，往往提前進行專利挖掘和布局，我們可以通過分析主要競爭對手專利信息，了解競爭對手技術開發的市場布局重點，而后結合企業自身優勢梳理創新點，進而挖掘出能很好保護自己產品技術并能限制競爭對手的專利。

3。 以項目研究為導向進行專利挖掘 企業在進行某一項技術攻關時，往往是以項目研究的形式開展的。

以項目研究為導向，首先要明確項目要突破的技術難點和相對現有技術實現的所有功能，并將實現這一目的每個技術點進行細分，明確每個技術點的技術解決方案的實施路徑。

其次，將每個功能的技術要素進行全面分析，確定技術要素是否符合專利申請的新穎性、創造性和實用性要求，是否符合專利的申請范圍。

三、企業專利布局的具體內容 專利布局要根據市場的專利情況、自身的專利情況、競爭對手的專利情況以及法律法規等相關因素經過綜合考慮后進行合理規劃，企業常用的專利布局主要有以下幾種[3]。

1。 路障式布局 是指將實現某一技術目標的必需的一種或幾種技術解決方案申請專利，形成路障式專利的布局模式。

路障式布局的優點是申請與維護成本較低，缺點是競爭者可以通過回避設計繞開路障。

2。 城墻式布局 是指將實現某一技術目標的所有規避設計方案全部申請專利，形成城墻式專利的布局模式。

城墻式布局可以抵御競爭者侵入自己的技術領地，不給競爭者進行規避設計和尋找替代方案的任何空間。

3。 地毯式布局 是指將實現某一技術目標或產品的所有技術解決方案全部申請專利，形成地毯式專利網的布局模式。

這種模式可以有效限制競爭對手進入，其缺點是成本太高，耗時耗力。

4。 圍欄式布局 是指在核心專利由競爭者掌握時，將圍繞該技術主題的許多技術解決方案申請專利，形成圍欄式專利布局模式。

這種模式非常適合后進入此領域的“技術跟隨型”企業。

張君偉訴專利復審委員會專利行政糾紛案

張君偉訴國家知識產權局專利復審委員會專利行政糾紛案一審 北京市第一中級人民法院 行政判決書 原告張君偉，男， 1961年12月4日出生，漢族，臺灣省臺北市人，現住上海市閔行區聯友路128號。

委托代理人吳干權，男， 1956年3月15日出生，漢族，上海三方專利事務所專利代理人，住上海市靜安區新閘路888弄140號801室。

委托代理人吳德明，男， 1960年10月3日出生，漢族，元亨利包裝科技（上海）有限公司員工，住上海市虹梅南路3333號嘉年別墅C25－1。

被告國家知識產權局專利復審委員會，住所地北京市海淀區北四環西路9號銀谷大廈10-12層。

法定代表人廖濤，副主任。

委托代理人路傳亮，國家知識產權局專利復審委員會審查員。

委托代理人王麗穎，國家知識產權局專利復審委員會審查員。

第三人石家莊卷煙廠，住所地河北省石家莊市維明南街1號。

法定代表人嚴金虎，廠長。

委托代理人王忠民，男， 1970年10月2日出生，漢族，石家莊卷煙廠法律顧問，住河北省石家莊市新華區聯盟路216號31棟2單元101號。

原告張君偉不服被告國家知識產權局專利復審委員會（簡稱專利復審委員會）2006年9月5日作出的第8633號無效宣告請求審查決定（簡稱第8633號決定），于法定期限內向本院提起訴訟。

本院于2007年1月8日受理本案后，依法組成合議庭，并按照法律有關規定通知石家莊卷煙廠作為第三人參加訴訟，于2007年3月5日公開開庭進行了審理。

原告張君偉的委托代理人吳干權、吳德明，被告專利復審委員會的委托代理人路傳亮、王麗穎，第三人石家莊卷煙廠的委托代理人王忠民到庭參加了訴訟。

本案現已審理終結。

專利復審委員會第8633號決定系就石家莊卷煙廠對張君偉享有的第01142655.1號發明專利（簡稱本專利）所提出的無效宣告請求作出的。

專利復審委員會在該決定中認定：1、張君偉在無效宣告程序中對本專利權利要求書的修改不符合《審查指南》的相關規定，專利復審委員會不予接受，仍以本專利授權公告的權利要求書為準。

2、石家莊卷煙廠放棄除附件1、附件8和附件11以外的其它證據，張君偉對上述證據的真實性無異議，對附件8的中文譯文無異議。

由于上述證據的公開日均早于本專利的申請日，可以用來評價本專利的新穎性和創造性。

3、本專利符合《中華人民共和國專利法》（簡稱專利法）第二十六條第三款及《中華人民共和國專利法實施細則》第二十條第一款之規定并具有新穎性。

4、關于本專利的創造性。

專利復審委員會認為，本專利權利要求1所要求保護的技術方案相對于附件8而言，其區別特征在于本專利采用柔印、凹印、絲印的涂布方式將固化型樹脂涂布在承印物表面上，而附件8中僅公開了采用具有版面的輥在承印物單張紙上涂布紫外線硬化樹脂，但柔印、凹印和絲印都是印刷技術領域中的常規印刷方式，選擇上述常規印刷方式來涂布紫外線硬化樹脂是本領域技術人員的公知常識。

在附件8的的基礎上，本領域技術人員可以選擇輥，也可以選擇柔印、絲印來代替輥。

這對于本領域技術人員來說是顯而易見和不需付出創造性勞動的，因此，權利要求1所要求保護的技術方案相對于附件8與公知常識的結合不具備突出的實質性特點和顯著的進步，因而不具備創造性。

從屬權利要求2限定部分附加技術特征“貼合成型采用光面貼合成型送入固化定型”也已在附件8中相應地公開，在其引用的權利要求1不具備創造性的情況下，該從屬權利要求也不具備創造性。

從屬權利要求3限定部分附加技術特征為“貼合成型還可以采用壓紋貼合成型送入固化定型”，附件11披露了一種全息圖像膜的形成方法，而在基材上形成全息圖像膜也屬于印刷材料表面制造工藝的一種。

從屬權利要求3的附加技術特征已被附件11公開，其在附件11中所起的作用與其在本專利中所起的作用相同，都是用于使涂層表面有一個模具壓痕層，壓痕層的光柵密度和距離與原來涂層產生光柵效應，在光線下可以產生特殊的光學效果。

由此可知在附件8的基礎上結合附件11和本領域的公知常識得出權利要求3所要求保護技術方案，對本領域的技術人員來說是顯而易見的。

因而，在其引用的權利要求1不具備創造性的情況下，從屬權利要求3不具備創造性。

據此，專利復審委員會作出第8633號決定，宣告本專利權無效。

張君偉不服，在法定期限內向本院提起行政訴訟。

其訴稱：1、附件8與本專利權利要求1相比，區別特征有兩點。

其一為，附件8采用輥式涂布方式，而本專利采用柔印、絲印、凹印的涂布方式。

其二為，附件8直接采用樹脂膠片壓光的覆膜工藝而本專利的成型工藝上位概念是有關印刷表面的加工處理成型，下位概念是有關印刷表面的貼合成型。

由于存在上述區別特征，以及固化樹脂涂布時印刷壓力不同，因而造成兩者的技術效果也不同，其中附件8為單面的鏡面效果，無光柵效果，而本專利具有光柵效果，所以權利要求1具有創造性。

2、本專利權利要求2的附加技術特征為光面貼合成型，在本專利說明書中對光面貼合成型的解釋為采用以模具對樹脂進行加工處理成型，模具可以是膜也可以是滾筒，因壓力形成與模具相對應的鏡面效果。

附件8與本專利權利要求2相比，兩者方案是不同的，效果也是不同的，所以權利要求2也具有創造性。

3、附件11公開一種全息圖像定位包裝膜的產品，所述的壓紋成型不是采用模具完成，而是將絲印的復合膜滾壓后固化經剝離到印刷到蒸鍍完成。

本專利權利要求3中的附加技術特征為壓紋貼合成型，在說明書中的解釋為采用模具進行加工處理成型，因壓力形成與模具相對應的壓紋效果。

所以兩者方案不同，前者必須要有蒸鍍，而本專利進行壓紋貼合成型，技術效果不同，應用領域不同。

所以權利要求3也具有創造性。

綜上，請求法院判令撤銷第8633號決定，維持本專利有效。

被告專利復審委員會辯稱：我委堅持關于本專利創造性的審查理由。

需要強調的是，如果本專利權利要求書中采用了上位概念的限定方式，而在說明書實施例中給出了該上位概念的具體下位概念，不能將涵蓋下位概念的上位概念解釋成說明書實施例中公開的具體下位概念。

張君偉在起訴書中所強調的有關本專利與附件8和附件11的不同點并沒有在其專利權利要求所要求保護的技術方案中予以限定，因此不應當予以考慮。

綜上所述，第8633號決定認定事實清楚、適用法律法規正確、審理程序合法、審查結論正確，張君偉的訴訟理由不能成立，請貴院駁回原告請求，維持專利復審委員會的第8633號決定。

第三人石家莊卷煙廠述稱，同意專利復審委員會的意見，請求駁回張君偉的訴訟請求。

本院經審理查明： 本案涉及國家知識產權局于2004年12月22日授權公告的名稱為“印刷材料表面制造工藝”的01142655.1號發明專利權（即本專利），其申請日為2001年12月14日，專利權人為張君偉。

本專利授權公告的權利要求書如下： “1、一種印刷材料表面制造工藝，包括對承印物（1）采用柔印、凹印、絲印的涂布方式將固化型樹脂涂布（2）在承印物的表面上，選擇加工處理成型（3），進行固化定型（4），最后到剝離成品（5）工藝步驟完成，其特征在于選擇加工處理成型在承印物表面采用貼合成型送入固化定型。

2、如權利要求1所述的印刷材料表面制造工藝，其特征在于貼合成型采用光面貼合成型送入固化定型。

張喜田訴專利復審委員會專利行政糾紛案

張喜田訴國家知識產權局專利復審委員會專利行政糾紛案一審 北京市第一中級人民法院 行政判決書 原告張喜田，男，漢族，1947年6月21日出生，吉林省天風制藥有限公司總經理，住吉林省長春市朝陽區立信胡同27-2號。

委托代理人耿慕白，北京金之橋知識產權代理有限公司專利代理人。

委托代理人李春t，男，漢族，1974年12月31日出生，北京金之橋知識產權代理有限公司職員，住北京市朝陽區工體西里5樓3門302號。

被告國家知識產權局專利復審委員會，住所地北京市海淀區北四環西路9號銀谷大廈10－12層。

法定代表人廖濤，副主任。

委托代理人李彥濤，國家知識產權局專利復審委員會審查員。

委托代理人徐潔玲，國家知識產權局專利復審委員會審查員。

第三人石家莊制藥集團歐意藥業有限公司，住所地河北省石家莊市轄區中山西路276號。

法定代表人王瑞琦，總經理。

第三人石藥集團中奇制藥技術（石家莊）有限公司，住所地河北省石家莊市新石北路368號。

法定代表人蔡東晨，董事長。

兩第三人之共同委托代理人李紅團，女，漢族，1966年9月19日出生，石家莊制藥集團歐意藥業有限公司法律顧問，住北京市海淀區龍翔路2樓909號。

兩第三人之共同委托代理人孫京國，男，漢族，1962年11月30日出生，石藥集團中奇制藥技術（石家莊）有限公司職員，住河北省石家莊市橋西區新石南路247號7棟3單元401室。

原告張喜田不服被告國家知識產權局專利復審委員會（簡稱專利復審委員會）于2006年4月1日作出的第7955號無效宣告請求審查決定（簡稱第7955號決定），于法定期限內向本院提起行政訴訟。

本院于2006年7月6日受理后，依法組成合議庭，并通知石家莊制藥集團歐意藥業有限公司（簡稱歐意公司）、石藥集團中奇制藥技術（石家莊）有限公司（簡稱中奇公司）作為第三人參加本案訴訟，于2006年9月22日公開開庭進行了審理。

原告張喜田及其委托代理人耿慕白、李春t，被告專利復審委員會的委托代理人李彥濤、徐潔玲，第三人歐意公司和中奇公司的委托代理人李紅團、孫京國到庭參加了訴訟。

本案現已審理終結。

第7955號決定系專利復審委員會針對歐意公司、中奇公司就張喜田所擁有的00102701.8號發明專利（簡稱本專利）所提出的無效宣告請求而作出的。

專利復審委員會在第7955號決定中認定：1。關于證據。

證據1是第95192238.6號中國專利說明書，其公告日晚于本專利的申請日，本身不能用于評價本專利的創造性。

但歐意公司、中奇公司于口頭審理時提交了證據1所述專利的申請公開說明書（簡稱對比文件），且張喜田對其真實性無異議，考慮到歐意公司、中奇公司在提出無效宣告請求時已經提交了其相應的授權文本即證據1，故專利復審委員會不將對比文件視為新證據，其可以用于評價本專利創造性。

反證2的真實性予以認可。

2。本專利符合專利法第三十三條的規定。

3。本專利符合專利法第二十六條第四款的規定。

4。關于專利法第二十二條第三款。

（1）關于權利要求1。

本專利權利要求1涉及一種氨氯地平對映體拆分的方法，其使用了手性助劑DMSO-d6或含DMSO-d6的有機溶劑，對比文件也公開了一種氨氯地平對映體的拆分方法，其使用的手性助劑為DMSO或含有它的溶劑，兩者比較，其區別僅在于所用的手性助劑不同。

就所解決的技術問題而言，從本專利說明書以及反證2中可以看出，本專利的技術方案可以達到比對比文件更高的光學純度和收率。

顯然，本專利所要解決的技術問題必須依賴于使用DMSO-d6或者含有DMSO-d6的有機溶劑替換對比文件中的DMSO或含有DMSO的溶劑，但是，對于本領域普通技術人員同樣顯然的是，要想達到上述的技術效果，DMSO-d6不論是單獨、還是含在有機溶劑中都必須以一定量使用，即其含量必須達到一定的范圍，并非任意含量（例如痕量）的DMSO-d6都能夠解決上述技術問題。

由于本專利權利要求1所述的技術方案中并沒有對DMSO-d6的含量提出要求，而本專利權利要求1相對于現有技術所解決的技術問題要求DMSO-d6的含量必須達到一定的范圍，導致權利要求1實際上包括了不能夠解決所述技術問題的技術方案，該部分技術方案相對于現有技術不具備突出的實質性特點和顯著的進步，因此權利要求1不符合專利法第二十二條第三款規定的創造性。

（2）關于權利要求2。

權利要求2是權利要求1的從屬權利要求，所附加的技術特征為將DMSO-d6與氨氯地平的摩爾比限定為≥1，并且限定了溶劑的種類，其解決的技術問題是提高了氨氯地平對映體的光學純度和收率。

對比文件沒有記載使用DMSO-d6進行拆分的技術內容，也沒有記載用于拆分氨氯地平的DMSO-d6的用量，更加沒有給出采用DMSO-d6替換DMSO作為手性助劑可以提高拆分對映體的光學純度的啟示。

本領域公知的是，現有技術中DMSO-d6的用途主要在于核磁共振分析領域。

對比文件的各實施例中，光學純度多數在97％到98.5％之間，僅實施例9的光學純度為＞99.5％，而本專利的光學純度多在99.5％以上，反證2進行的對比試驗則可以更加清晰地反映出本專利在效果上的優勢，從總體上看，本專利的技術方案是有利于提高光學純度的，因而也是有積極效果的。

因此權利要求2具有創造性。

（3）關于權利要求3。

權利要求3從屬于權利要求1或2，其引用權利要求1所形成的技術方案也沒有對所使用的DMSO-d6的含量進行限定，同樣不具備創造性；其引用權利要求2所形成的技術方案由于是權利要求2的從屬權利要求，在權利要求2具有創造性的前提下，這一部分技術方案具備創造性。

基于上述理由，專利復審委員會作出第7955號決定，宣告本專利權利要求1和權利要求3引用權利要求1的部分無效，維持權利要求2和權利要求3引用權利要求2的部分有效。

原告張喜田不服，向本院提起行政訴訟，其訴稱：1、對比文件是超過舉證期限提交的新證據，與證據1屬于兩份不同的證據，被告采用該證據違反專利法實施細則和《審查指南》的規定。

2、本專利權利要求1中包含了兩個以上技術方案，應該分別予以審理。

第7955號決定中僅對說明書“含DMSO-d6的有機溶劑中”的一個優選方案進行了評述，沒有對其它方案進行審理，屬于漏審；在無效程序中，歐意公司、中奇公司及我方都沒有提及DMSO-d6/氨氯地平≥1（摩爾比）的條件。

被告在沒有證據的情況下錯誤地拆解權利要求1，違反了請求原則。

3、第7955號決定對權利要求的認定錯誤。

權利要求1公開“……或結合一個DMSO-d6的（R）-（+）-氨氯地平的L-酒石酸鹽而分別沉淀”，這清楚說明反應需要生成“沉淀”，沉淀反應中加入足量沉淀劑（對于本專利就是DMSO-d6）是公知常識。

被告認定權利要求1中未對DMSO-d6含量進行限定是錯誤的。

而且從說明書可知DMSO-d6/氨氯地平≥1（摩爾比）僅是優選方案之一而不是全部。

權利要求1創造性的關鍵不在于DMSO-d6/氨氯地平的摩爾比，而在于現有技術是否給出了使用DMSO-d6的技術啟示。

現有技術對DMSO-d6的認知是用于核磁共振分析領域，沒有公開使用DMSO- d6作為手性助劑對氨氯地平拆分，也沒給出技術啟示。

故此本專利的權利要求1符合專利法關于創造性規定。

被告以“權利要求1實際上包括了不能解決所述技術問題的技術方案”為由判定權利要求1不具創造性沒有法律依據。

權利要求2、3都具備創造性。

綜上，原告請求法院依法撤銷第7955號決定。

被告專利復審委員會辯稱：1、對比文件雖然是在無效宣告請求之日起一個月后提交的，但歐意公司、中奇公司在舉證期限內提交過該專利相應的授權文本，兩個文本在內容上是相關聯的，所采用部分的文字記載在兩個文本中是相同的，原告在收到該證據的授權文本時已經獲知了該公開文本中實質記載的內容，并未造成所謂對原告的“突然襲擊”，對比文件是完善證據的補充性證據，而不是新證據，被告采用該證據符合法律規定。

2、判斷一項權利要求是否具備創造性，應當按照《審查指南》規定的方法來進行判斷。

對于一項概括而成的發明專利權利要求，如果該權利要求涉及的部分技術方案不具備突出的實質性特點和顯著的進步，則該權利要求就不具備創造性。

為了實現本專利所要解決的技術問題，DMSO-d6不論是單獨還是含在有機溶劑中都必須以一定量使用，并非任意含量的DMSO-d6都能解決技術問題，而權利要求1并沒有對其含量提出要求，因此權利要求1實際上包含了不能夠解決所述技術問題的技術方案。

在評價發明是否具有顯著的進步時，主要應當考慮發明是否具有有益的技術效果。

在權利要求1概括的技術方案中包含了不能解決所述技術問題、達到所述技術效果的技術方案，被告認為權利要求1不具備創造性符合法律規定，也沒有違反請求原則。

被告作出的第7955號決定認定事實清楚、適用法律正確、審查程序合法，請求法院予以維持。

第三人歐意公司、中奇公司未提交書面意見陳述，其在庭審中均表示：第7955號決定中關于權利要求1無效的結論是正確的，但用DMSO-d6替換DMSO是顯而易見的，反證2不能用來評價本專利的發明效果，DMSO-d6：氨氯地平≥1是公知常識，對比文件中也已公開，因此本專利權利要求2、3也不具有創造性，應當全部被宣告無效。

本院經審理查明：

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