商標異議形式審查與問題分析,局部外觀設計來了!看看國外局部外觀設計申請
專利代理 發布時間:2023-06-18 15:26:39 瀏覽: 次
今天,樂知網小編 給大家分享 商標異議形式審查與問題分析,局部外觀設計來了!看看國外局部外觀設計申請視圖簡介
商標異議形式審查與問題分析
編者按:4月3日-4日,由商標局、商評委和中華商標協會聯合舉辦的商標注冊便利化改革政策解讀集中宣講活動在北京圓滿結束。
為期兩天的集中宣講期間,來自商標局和商評委的多名專家和業務骨干就相關議題對商標注冊便利化改革政策進行重點突出、要點細致的解讀。
接下來,我們將宣講內容整理成干貨,一一分享給大家。
異議形審處 孫彥 簡介:孫彥,商標局異議形審處主任科員。
中國政法大學碩士畢業,2005年進入商標局,目前主要負責商標異議受理審核、行政復議和行政訴訟工作。
一、商標注冊初審的再審查 異議再審查,原則上與商標初步審查具有一致性,但不完全相同。
對于商標初步審查時無法掌握的情況,需要在異議階段綜合考慮異議雙方當事人提出的事實和理由,并在審查相關證據的基礎上得出結論。
二、特定主體的權利救濟途徑 現行《商標法》對異議理由進行區分和限定,回歸了異議制度的權利救濟初衷,以此遏制異議投機行為。
在先權利人或利害關系人可以基于以下理由提出異議: 1。《商標法》第十三條第二、三款:馳名商標保護; 2。《商標法》第十五條:防止因代理關系、代表關系或其他合同、業務關系導致商標被搶注; 3。《商標法》第十六條第一款:地理標志保護; 4。《商標法》第三十條:在先商標權保護; 5。《商標法》第三十一條:商標同日申請; 6。《商標法》第三十二條:禁止損害各種在先權利,禁止搶先注冊他人已使用并有一定影響的商標。
三、社會公眾的監督途徑 任何人可以基于以下理由提出: 1。《商標法》第十條:不得作為商標使用的標志; 2。《商標法》第十一條:不得作為商標注冊的標志; 3。《商標法》第十二條:以三維標志申請注冊商標的,僅由商品自身的性質產生的形狀、為獲得技術效果而需有的商品形狀或者使商品具有實質性價值的形狀,不得注冊。
四、平衡各方當事人利益 1。打擊惡意搶注和惡意異議并重;
局部外觀設計來了!看看國外局部外觀設計申請視圖簡介
局部外觀設計,是指對產品的某一局部作出的創新設計。
我國在第四次專利法修改中引入了局部外觀設計保護制度,為了讓廣大創新主體增加對局部外觀設計的了解,本文對國外局部外觀設計的申請視圖的提交情況做一簡要介紹。
雖然各局對于申請視圖的提交規定不盡相同,但是,在局部外觀設計申請視圖的提交方式上,美國、日本、韓國及WIPO均允許以下兩種提交方式: 一、采用虛線與實線結合的方式。
實線繪制的為保護的部分,虛線繪制的為不保護的部分。
1。 申請號:US29708708 2。 申請號:KR30-2014-0006250 3。 申請號:JPD2015-13645 二、采用半透明涂覆的方式。
未覆蓋的為保護的部分,覆蓋的為不保護的部分。
1。 申請號: JPD2007-24187 2。 申請號: EM000220405-0006 值得注意的是,雖然申請視圖的提交方式不同,但是,申請視圖中均既包含了需要保護的局部設計,同時,也包含了該局部所在的整體產品,僅僅是通過不同的繪制或者處理方式將保護與不保護的部分加以區分;同時,申請視圖中也均充分、清楚地顯示了要求保護的產品的了局部外觀設計,以明確其保護范圍。
為了進一步明確保護范圍,部分國家還要求申請人在其他文件中對于視圖加以說明,比如日本及韓國均規定需要在其他文件中通過文字明確請求保護的部分。
以上是筆者對于國外局部外觀設計申請視圖主要提交形式的簡要介紹,希望本文可以為創新主體向國外申請局部外觀設計提供參考借鑒。
【 知識產權官網】專注知識產權領域18年,服務內容:專利代理、商標代理、版權登記、涉外服務、知識產權訴訟、預警、運營、政府項目申報等。
首爾半導體對Mouser銷售億光LED產品發起專利侵權訴訟
近日全球知名 LED 專業制造商首爾半導體于意大利米蘭法庭對全球電子元器件分銷商貿澤電子(Mouser)及其意大利子公司就其銷售億光 LED 產品發起了專利侵權訴訟。
根據起訴內容,首爾半導體宣稱貿澤電子必須為銷售侵犯其億光 LED 產品擔責。
基于其所控告的侵權行為,首爾訴請永久禁令、損害賠償、退出市場和銷毀此類產品。
實際上,首爾半導體和貿澤電子之間的專利訴訟還得追溯至去年。
2017年,首爾半導體在德國杜塞爾多夫地區法院提起了兩起專利侵權訴訟,指控貿澤銷售的億光大功率和中功率 LED 產品系侵權產品。
然而在首爾半導體對貿澤電子提起兩起訴訟之后,貿澤電子依然在其他國家銷售具有侵權嫌疑的產品。
因此,首爾半導體在意大利對貿澤電子發起了第三起專利侵權訴訟。
據了解,首爾半導體是韓國一家專業的半導體生產制造廠商,在全球 LED 行業位列前五名,目前擁有半導體領域的相關專利已超過 1 萬件,其自主研發的無封裝 LED、多結構芯片、直流交流可驅動 Acrich、UV 殺菌等四大創新技術,引領全球 LED 領域發展。
自 2003 年贏得對中國臺灣榮創的專利訴訟后,首爾半導體相繼在美國、歐洲、日本、韓國等地發起 50 多起專利戰,均以勝訴告終。
值得一提的是,首爾半導體自 2016 年 9 月起,以照明、電視等制造廠商為對象,針對全球 29 家企業發出了專利侵權警告。
這 29 家企業包括創維等 15 家中國大陸企業、AOT榮創公司等 4 家中國臺灣企業以及 Feit 等多家歐美企業。
商標異議形式審查與問題分析 的介紹就聊到這里。
更多關于 局部外觀設計來了!看看國外局部外觀設計申請視圖簡介 的資訊,可以咨詢 樂知網。
(樂知網- 領先的一站式知識產權服務平臺,聚焦 專利申請,商標注冊 業務)。
關鍵詞: 申請專利 專利申請 ?