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8月1日起,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局停征和調(diào)整部分專利收費(fèi),詳情參閱資訊中心公告

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專利申請(qǐng)流程百科圖文,最新中國(guó)專利費(fèi)減備案操作流程

專利代理 發(fā)布時(shí)間:2023-04-29 21:33:31 瀏覽:


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專利申請(qǐng)到國(guó)知局辦理。撰寫專利申請(qǐng)材料,遞交申請(qǐng),經(jīng)審核,符合授權(quán)條件,獲得專利權(quán)。


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企業(yè)或個(gè)人符合費(fèi)減備案請(qǐng)求的,需要先辦理注冊(cè)。

一、注冊(cè)所需資料 個(gè)人用戶:身份證(姓名、證件號(hào)、有效期)、手機(jī)號(hào)、 企業(yè)用戶:企業(yè)全稱、統(tǒng)一社會(huì)信用代碼、法定代表人身份信息(姓名、身份證號(hào))、手機(jī)號(hào),經(jīng)辦人身份證、手機(jī)號(hào)。

注:經(jīng)辦人應(yīng)當(dāng)是本單位員工,或者法定代表人。

二、賬戶注冊(cè)流程 01、打開(kāi)專利費(fèi)減新網(wǎng)址:https://cponline。cnipa。gov。cn,點(diǎn)擊右上角【注冊(cè)】,根據(jù)費(fèi)減備案主體類型,選擇自然人或法人(個(gè)人點(diǎn)自然人,企業(yè)點(diǎn)法人,已注冊(cè)用戶可跳過(guò)這一步)。

02、點(diǎn)擊「我已閱讀并同意協(xié)議內(nèi)容」按鈕 03、個(gè)人用戶注冊(cè)界面——輸入對(duì)應(yīng)的信息,點(diǎn)擊下一步(帶*號(hào)為必填項(xiàng)) 法人用戶注冊(cè)界面——輸入相關(guān)信息后點(diǎn)擊下一步(帶*號(hào)為必填項(xiàng)) 其中法人類型根據(jù)企業(yè)性質(zhì)選擇,分為企業(yè)、團(tuán)體、機(jī)關(guān)事業(yè)單位、個(gè)體工商戶。

04、下一步,關(guān)聯(lián)經(jīng)辦人,此處經(jīng)辦人需要填寫企業(yè)內(nèi)部人員。

如經(jīng)辦人有個(gè)人賬號(hào),選擇已注冊(cè)輸入注冊(cè)信息點(diǎn)擊提交即可。

如果經(jīng)辦人沒(méi)有個(gè)人賬號(hào),選擇未注冊(cè)并輸入對(duì)應(yīng)信息,點(diǎn)擊提交即可注冊(cè)成功。

三、費(fèi)減備案所需材料 個(gè)人:身份證正反面復(fù)印件(簽字),所在單位出具的個(gè)人收入證明(單位公章,且上年度年收入低于6萬(wàn)元);無(wú)固定工作:提交戶籍所在地或者經(jīng)常居住地縣級(jí)民政部門或者鄉(xiāng)鎮(zhèn)人民政府(街道辦事處)出具的關(guān)于其經(jīng)濟(jì)困難情況證明。

事業(yè)單位:事業(yè)單位法人證書復(fù)印件(加蓋公章) 企業(yè):“企業(yè)所得稅”上年度納稅申報(bào)表蓋公章(‘應(yīng)納稅所得額’低于100萬(wàn)元),‘企業(yè)所得稅年度納稅申報(bào)表封面’蓋公章(A類報(bào)表提供),營(yíng)業(yè)執(zhí)照副本復(fù)印件(公章)。

新成立的企業(yè):營(yíng)業(yè)執(zhí)照復(fù)印件(公章),新成立企業(yè)情況說(shuō)明(公章)(新成立企業(yè):費(fèi)減備案當(dāng)年度成立的企業(yè)和每年5月31日前,上年度剛成立的企業(yè)可認(rèn)定為新成立企業(yè))

機(jī)械工程系開(kāi)展專利知識(shí)講座



4月26日,世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)日,為加強(qiáng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)法治保障,有力支持全面創(chuàng)新,進(jìn)一步推進(jìn)和規(guī)范知識(shí)產(chǎn)權(quán)工作,機(jī)械工程系為機(jī)械系師生做知識(shí)產(chǎn)權(quán)專題講座。

詳細(xì)介紹了專利的概念、專利申請(qǐng)知識(shí)、專利申請(qǐng)文件、專利申請(qǐng)程序、申請(qǐng)專利的準(zhǔn)備等內(nèi)容。

細(xì)致講述了專利申請(qǐng)的流程和請(qǐng)求書、權(quán)利要求書、說(shuō)明書等專利文件的組成部分,并通過(guò)實(shí)例,重點(diǎn)介紹了專利說(shuō)明書中技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、有益性效果等內(nèi)容的撰寫要求。

讓同學(xué)們對(duì)專利申請(qǐng)有了全面的認(rèn)識(shí)、了解,開(kāi)拓了專利申請(qǐng)思路,同時(shí)也要不斷培養(yǎng)自己的創(chuàng)新思維、創(chuàng)新方法,增強(qiáng)創(chuàng)新能力。



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