今天，樂知網小編 給大家分享 發明專利申請網站查詢，發明專利在知網上能查到等于是公開了嗎？

發明專利申請網站查詢，一種PCB板提升機構

[0001]本發明屬于機械加工設備技術領域，具體涉及一種PCB板提升機構。

[0002]印刷線路板在SMT印刷工藝完成后需進行多到工序的監測，如對印刷線路板的外觀檢測、引腳閉合效果、零件焊接效果、導通測試等，印刷線路板的外觀檢測在實際生產中通常是由多道進行各種外觀指標的檢測，印刷線路板的物料由傳輸裝置輸送至各檢測工位，但現有的工藝中通常是由人工直接對印刷線路板進行抬升取送，物料的抬升需人員不斷上下拿取而后再進行檢測，較為不便利，基于此，有必要開發一種種輔助檢測的提升機構，便于將印刷線路板的物料進行提升或降落。

[0003]本發明的目的在于提供一種PCB板提升機構，以解決上述背景技術中提出的問題。

[0004]本次發明為達到上述目的所采用的技術方案是： [0005]一種PCB板提升機構，由固定基板、與固定基板相平行的固定頂板、兩個固定連接在固定基板與固定頂板之間兩端側的固定柱、轉動連接在固定基板與固定頂板之間且處在兩固定柱之間中央處的傳動絲桿、活動連接在傳動絲桿和固定柱上的連接基板、固定連接在連接基板底部中部且水平橫向設置的底板、兩個相對向平行設置且垂直固定在底板上的豎直夾板構成，所述連接基板的中部設置有與傳動絲桿相對位匹配的第一反向器，所述連接基板通過第一反向器與傳動絲桿相連接，所述豎直夾板的頂端固定連接有提升夾板，所述提升夾板由固定連接在豎直夾板頂端的連接框板、三個等間距分布且垂直固定連接在連接框板頂部的頂升柱、固定連接在頂升柱頂部的矩形框板構成，所述連接框板的前端向底板的中心軸面凸起，所述頂升柱處在豎直夾板的內側上方，所述頂升柱上等距分別若干個水平橫向設置的擋板；固定頂板的一端側固定連接有豎直向上設置的輸出電機，所述傳動絲桿的頂端延伸出固定頂板的頂壁且固定連接有傳動輪，所述輸出電機的輸出軸與傳動輪相傳動連接。

[0006]進一步說明的是，所述連接基座在與固定柱相接處設置有與固定柱相對位匹配的軸承座，所述固定柱嵌入設置在軸承座內。

[0007]進一步說明的是，所述連接基板兩側提升夾板上的擋板相對向設置且相對位匹配。

[0008]與現有技術相比，本發明的有益效果在于： [0009]應用在實際時，兩側連接基板兩側提升夾板上每層處于同一水平上的擋板之間放入印刷線路板，傳動絲桿通過輸出電機的控制驅動，實現連接基板在固定柱的上下平移，便于人員取放印刷線路板，能夠提高印刷線路板在外觀檢測工藝中的生產效率。

[0010]附圖用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本發明的實施例一起用于解釋本發明，并不構成對本發明的限制。

在附圖中： [0011]圖1是本發明的結構示意圖； [0012]其中：1、固定基板；2、固定頂板；3、固定柱；4、傳動絲桿；5、連接基板；6、底板；7、豎直夾板；8、第一反向器；9、提升夾板；10、連接框板；11、頂升柱；12、矩形框板；13、擋板；14、輸出電機；15、傳動輪；16、軸承座。

[0013]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。

基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

[0014]請參閱圖1，本發明提供以下技術方案： [0015]一種PCB板提升機構，由固定基板1、與固定基板1相平行的固定頂板2、兩個固定連接在固定基板1與固定頂板2之間兩端側的固定柱3、轉動連接在固定基板1與固定頂板2之間且處在兩固定柱3之間中央處的傳動絲桿4、活動連接在傳動絲桿4和固定柱3上的連接基板5、固定連接在連接基板5底部中部且水平橫向設置的底板6、兩個相對向平行設置且垂直固定在底板6上的豎直夾板7構成，連接基板5的中部設置有與傳動絲桿4相對位匹配的第一反向器8，連接基板5通過第一反向器8與傳動絲桿4相連接，豎直夾板7的頂端固定連接有提升夾板9，提升夾板9由固定連接在豎直夾板7頂端的連接框板10、三個等間距分布且垂直固定連接在連接框板10頂部的頂升柱11、固定連接在頂升柱11頂部的矩形框板12構成，連接框板10的前端向底板6的中心軸面凸起，頂升柱11處在豎直夾板7的內側上方，頂升柱11上等距分別若干個水平橫向設置的擋板13；固定頂板2的一端側固定連接有豎直向上設置的輸出電機14，傳動絲桿4的頂端延伸出固定頂板2的頂壁且固定連接有傳動輪15，輸出電機14的輸出軸與傳動輪15相傳動連接。

[0016]連接基座在與固定柱3相接處設置有與固定柱3相對位匹配的軸承座16，固定柱3嵌入設置在軸承座16內；連接基板5兩側提升夾板9上的擋板13相對向設置且相對位匹配。

[0017]應用在實際時，兩側連接基板5兩側提升夾板9上每層處于同一水平上的擋板13之間放入印刷線路板，傳動絲桿4通過輸出電機14的控制驅動，實現連接基板5在固定柱3的上下平移，便于人員取放印刷線路板，能夠提高印刷線路板在外觀檢測工藝中的生產效率。

[0018]需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關系術語僅僅用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。

而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設備所固有的要素。

[0019]最后應說明的是：以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不用于限制本發明，盡管參照前述實施例對本發明進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換。

凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。

發明專利申請網站查詢，發明專利在知網上能查到等于是公開了嗎？

之前申請了一個發明專利，大概過了五個月能在知網上查到了，請問是公開了嗎？之前網上查到專利公開大約要18個月，覺得很奇怪。

請問現在距離授權大約還有多長時間呢？ 一般來講是這樣的，不過不排除小概率的泄密情況，還是要以國知局的公開為準。

審查員提案后一般半年到一年之內結案，提案時間不定，與技術領域有關 有效的發明專利申請（沒有視撤或者主動撤回）滿十八個月要依法公開，但申請人要求了提前公開的初審合格后不用等到十八個月就公開，這屬于依申請公開，快的話自申請日起三四個月就公開。

所以十八個月是最遲公開時間，不是必須等到十八個月才公開。

發明專利公開前，申請內容國家知識產權局對外是保密的，也就是公開途徑查不到。

如果知網上查到了專利文獻，那一定是發明專利申請初審合格公開了，這可以在國家知識產權局網站和其他第三方專利檢索平臺檢索到。

至于多久能授權，這個時間跨度就很大了。

因為公開后還有實質審查程序。

首先要依申請人的申請進入實質審查程序，專利法規定申請日起三年內可以提出實質審查請求，當然也可以提交專利申請同時提出，這個時間跨度夠長吧！進入實審程序，然后排隊等待實審部門提案，等待提案的時間快則個把月，慢的話兩三年也不稀奇。

實審部門提案后，審查員進行全面審查，并按最低文獻檢索量要求進行檢索，寫審查意見并發出，一個專利申請平均發兩次審查意見，申請人或代理人在規定的時間內（一通4個月N通2個月）進行書面答復，審查員接受了答復意見會發授權通知，這個通知還要等著質檢部門抽檢，沒有抽到或者抽到后質檢部門未發現問題，授權通知才發出，這個專利才算授權了。

也就是說，進入實審程序如果都走下來，快的話個把月授權，慢的話三年也不奇怪，尤其是這個審查員休產假或者外出培訓比如馬歇爾，這個申請就擱著吧。

發明平均審查周期20個月。

當然，為了加快審查，符合一定條件的可以辦理優先審查，順利的話幾個月授權，一般不超過一年。

還想更快，符合預審條件的走預審通道，順利的話發明3-6個月授權。

網上九月查到就是公開了 在勾選了提前公開且申請費繳納及時的情況下，2-4個月就公開了 是公開了。

提前公開 網上能查到信息了，肯定是已經公開了。

至于你說的18個月是不勾選提前公開的情況下，一般如果是委托代理機構的，都會勾選提前公開。

提前公開的專利一般初審沒什么問題，初審合格之后就會公開。

發明專利申請網站查詢，發明專利怎么查詢

1、日本專利局將自1885年以來公布的所有日本專利、實用新型和外觀設計電子文獻及檢索系統通過其網站(http：//www。jpo。go。jp/)上的工業產權數字圖書館(IPDL)免費提供給全世界的公眾查詢。

該工業產權數字圖書館被設計成英文版(PAJ)和日文版兩種類型。

英文版網頁上只有日本專利、實用新型和商標數據，日 文版網頁上還包括外觀設計數據。

2、進入方法： 1）。直接進入：http：//www。jpo。go。jp/ 2）。通過國家知識產權局網站鏈接進入： 國家知識產權局/國外及港澳臺專利檢索－日本特許廳網上專利檢索（英文版）打開網址，選擇“Patents”，點擊頁面下方的“Industrial Property Digital Library (IPDL)”即可進入到日本工業產權數字圖書館。

點擊右上角的“To Japanese Page”可完成英文界面與日文界面的轉換。

3）專利檢索（日文界面）： 該頁面的主要功能包括：“特許·實用新案檢索”、“意匠檢索”、“經過情報檢索”和“審判檢索”。

“特許·實用新案檢索”：主要檢索發明、實用新型專利； “意匠檢索”：主要檢索日本外觀設計專利； “經過情報檢索”：主要檢索日本專利的法律狀態； “審判檢索”：主要是對一些有復審程序的專利申請所作判決的公報。

發明與實用新型公報數據庫檢索界面上設有12組相同的檢索式輸入窗口，每組由兩個輸入窗口構成。

分別是：“文獻種別（專利文件種類代碼）”和“文獻番號（號碼）”。

專利文件種類代碼和號碼檢索式輸入窗口之間的邏輯關系為“與”；而各組檢索式輸入窗口之間的邏輯關系為“或”，可同時輸入多個文獻號碼進行檢索。

I)輸入方式 1999年前用2位數字的日本紀年， 2000年后則用4位數字的公元紀年；如：檢索1997年的123456號公布的專利申請，輸入：“H09-123456”； 日本紀年與公元年的換算： 平成=H(+1988)；昭和=S(+1925)；大正=T（+1911）；明治=M（+1867）。

II)檢索結果顯示 若檢索的文獻存在，則系統會自動設置超鏈接，點擊之后即可瀏覽專利全文。



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