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美國臨時專利申請制度發(fā)展歷程，什么是美國的臨時專利申請

美國臨時是什么 臨時專利申請(provisional application)的制度依照1995年6月8日美國國會通過在烏拉圭回合談判所簽訂的協(xié)議(Uruguay Round Agreements Act，RUAA)，美國局(United States Patent and Trademark Office，USPTO)所提交美國，因而產(chǎn)生的一種獨立的專利申請形式。

臨時專利申請規(guī)定主要涉及美國專利法的兩個條款，即第111條(b)款和第119條(e)款。

美國專利法第111條(b)款指出了與臨時專利申請相關(guān)的一些條件，即建立申請日需要提供說明書和附圖；維持申請日需要在規(guī)定的時間期限內(nèi)提交申請費和發(fā)明人姓名。

第119條(e)款指出臨時專利申請(下文簡稱 臨時專利 )為申請人確立了一個優(yōu)先權(quán)，其保護(hù)期限是1年，在此期限和保護(hù)范圍內(nèi)，只有該 臨時專利 的持有人可以提出有關(guān)專利申請。

但是，專利申請以臨時申請的方式提出后，必須在1年內(nèi)正式向美國專利商標(biāo)局提交轉(zhuǎn)換請求書，將 臨時專利 轉(zhuǎn)為正規(guī)申請，否則此 臨時專利 在1年后自動失效。

正規(guī)申請的內(nèi)容應(yīng)包含臨時專利申請的內(nèi)容和經(jīng)改寫后的內(nèi)容。

美國臨時專利申請具有幾個特點：

(1)不一定要有請求項，只需提供說明書、必要圖式及發(fā)明人姓名即可建立臨時申請的申請日； (2)不拘泥于美國專利法所制訂的說明書格式，申請人可以任意格式提出申請；

美國臨時專利申請制度發(fā)展歷程，淺談美國臨時專利申請

中美作為兩個專利申請大國，由于其發(fā)展歷史的不同，兩國專利制度存在許多不同。

在美國專利文件中，總是會看到“本申請要求某美國臨時申請的優(yōu)先權(quán)”的類似描述，而在我國專利制度中，并不存在任何“臨時申請”的概念。

那么，究竟什么是“美國臨時申請”呢？這里，我們簡單分析一下美國臨時申請的問題。

美國專利法第119條（e）款指出臨時專利申請為申請人確立了一個優(yōu)先權(quán)，其保護(hù)期限是一年，在此期限和保護(hù)范圍內(nèi)，只有該“臨時專利”的持有人可以提出有關(guān)專利申請。

但是，專利申請案以臨時申請的方式提出后，必須在1年內(nèi)正式向美國專利商標(biāo)局提交轉(zhuǎn)換請求書，將“臨時專利申請”轉(zhuǎn)為正規(guī)申請，否則此“臨時專利申請”在1年后自動失效。

正式申請的內(nèi)容應(yīng)包含臨時專利申請的內(nèi)容和經(jīng)修改后的內(nèi)容。

根據(jù)法條的描述，美國臨時專利申請似乎對應(yīng)于我國的本國優(yōu)先權(quán)，但是二者之間存在區(qū)別。

首先，美國臨時專利申請是簡化的申請，不需撰寫完整的詳細(xì)說明書，不必辦理完整的申請文件，只需滿足最低的形式要求即可遞交申請，審批簡單，費用比正式申請低，因此，其并不是真正意義上的專利申請，不予以審查，不被授予專利權(quán)，而本國優(yōu)先權(quán)作為單獨的專利申請可以進(jìn)行一系列相應(yīng)流程并最終獲得專利權(quán)。

其次，美國臨時專利申請規(guī)定所針對的對象主要是已經(jīng)脫離基礎(chǔ)理論階段、具有應(yīng)用前景和潛在商業(yè)價值，但還不能申請專利的成果，例如，如果一項成果的應(yīng)用前景還不明朗，可以先申請臨時專利，待進(jìn)一步研究后再申請正式專利，而本國優(yōu)先權(quán)的客體嚴(yán)格限定為發(fā)明和實用新型，也就是說，本國優(yōu)先權(quán)所針對的對象是符合我國專利法規(guī)定的新的技術(shù)方案。

美國臨時專利申請與我國的本國優(yōu)先權(quán)本質(zhì)上極為相似，二者具有相似的積極意義，例如，均可以避免申請人在未獲得專利權(quán)的同時遭遇技術(shù)秘密公開，有利于保護(hù)申請人的利益，避免侵權(quán)糾紛等。

此外，二者的優(yōu)先權(quán)期限均不計入專利權(quán)期限，也就是說，1年的未決時間不包括在20年的專利（美國臨時專利申請和我國發(fā)明專利申請，實用新型專利申請為10年）保護(hù)期限內(nèi)，該期限從正式專利申請?zhí)峤恢掌鹚悖虼耍o申請人提供了12個月的額外的專利保護(hù)“寬限期”。

美國臨時專利申請制度發(fā)展歷程，美國臨時專利申請制度簡介

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