中企公布EUV光刻機(jī)發(fā)明專利，難怪ASML著急出貨
專利代理 發(fā)布時(shí)間：2022-12-07 16:55:22 瀏覽: 次
在光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML一家獨(dú)大，依托自主研發(fā)的先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，ASML也在整個(gè)光刻機(jī)市場(chǎng)賺得盆滿缽滿；因?yàn)镋UV光刻機(jī)是生產(chǎn)7nm工藝以下芯片的必備設(shè)備，所以很多芯片都爭(zhēng)相購(gòu)買(mǎi)EUV光刻機(jī)。在老美的限制下，中國(guó)就算有錢(qián)也買(mǎi)不到。
多年來(lái)，在美洲等國(guó)的幫助下，ASML還成功拿下了核心技術(shù)光刻機(jī)，獲得了光源設(shè)備、真空室、光刻膠材料、光學(xué)鏡頭等核心部件的供應(yīng)。ASML實(shí)際承擔(dān)組裝EUV光刻機(jī)的工作，很多零部件都是從國(guó)外進(jìn)口的；要知道，光刻機(jī)中的每一個(gè)部件都可能涉及到核心技術(shù) 專利，所以其他廠商侵犯專利，很容易被起訴，所以我們不能完全復(fù)制EUV光刻機(jī)，我們要堅(jiān)持自主研發(fā)自己的專利！
在EUV光刻機(jī)等核心技術(shù)領(lǐng)域，掌握技術(shù) 專利這個(gè)鍵非常重要。在這個(gè)關(guān)鍵時(shí)刻，中企川芯半導(dǎo)體公布了一款名為“曝光成像結(jié)構(gòu)、反射式光掩模組和投影式光掩模光刻機(jī)”的光掩模光刻機(jī)專利 技術(shù)，這是除此之外，我們之前在光源、兩件式工作臺(tái)等核心技術(shù)領(lǐng)域的突破。
樂(lè)知網(wǎng)小編給大家分享一個(gè)專利申請(qǐng):一種光刻機(jī)系統(tǒng)及光刻方法
摘要:
本發(fā)明涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及光刻機(jī)系統(tǒng)和光刻方法。
該光刻機(jī)系統(tǒng)包括能夠發(fā)射至少兩種能量束的光源模塊；
能量束調(diào)節(jié)模塊，用于調(diào)節(jié)能量束的波長(zhǎng)和能量；
光學(xué)模塊用于將能量光束共線聚焦形成貝塞爾光束；
四波混頻發(fā)光模塊用于提供四波混頻藍(lán)光，四波混頻藍(lán)光和貝塞爾光束可以共線聚焦形成短波能量光束；
運(yùn)動(dòng)模塊包括樣品臺(tái)和智能機(jī)械手，樣品臺(tái)設(shè)置為位置可移動(dòng)狀態(tài)，智能機(jī)械手用于調(diào)整待刻蝕樣品在樣品臺(tái)上的位置。通過(guò)該系統(tǒng)，可以無(wú)限縮小光刻光束的線寬，光束可以縮小到5nm、3nm、2nm甚至更低，從而提高光刻精度，降低功耗。
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